O aquecimento por resistência em fornos de grafitização a vácuo envolve parâmetros específicos para garantir um desempenho ótimo.As principais especificações incluem as dimensões da área de trabalho (1300x1300x2000 mm a 2000x2000x4000 mm), a temperatura máxima (2600°C), a uniformidade da temperatura (±10 a ±20°C), os níveis de vácuo (vácuo máximo de 50 Pa) e a taxa de aumento da pressão (0,67 Pa/h).Estes fornos suportam tanto o aquecimento por resistência como por indução, com configurações como modelos à base de grafite ou totalmente metálicos para diferentes necessidades de processamento.São versáteis para aplicações como tratamento térmico de metais, sinterização de cerâmica e fabrico de componentes electrónicos, oferecendo ambientes controlados, eficiência energética e controlo preciso da temperatura.
Pontos-chave explicados:
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Tamanhos das áreas de trabalho
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Dimensões standard:
- 1300x1300x2000 mm
- 1500x1500x3000 mm
- 2000x2000x4000 mm
- Os tamanhos maiores acomodam o processamento em massa, enquanto os mais pequenos se adequam a tarefas de precisão como experiências de laboratório ou fabrico de componentes electrónicos.
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Dimensões standard:
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Parâmetros de temperatura
- Temperatura máxima: 2600°C, adequado para processos de alta temperatura como grafitização ou sinterização de cerâmica.
- Uniformidade: ±10 a ±20°C, assegurando resultados consistentes em toda a peça de trabalho.
- Obtido através de elementos de aquecimento por resistência (por exemplo, grafite ou MoSi2) ou aquecimento por indução, dependendo do forno de cementação sob vácuo configuração.
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Desempenho de vácuo
- O melhor vácuo:50 Pa, essencial para minimizar a oxidação e a contaminação.
- Taxa de aumento de pressão:0,67 Pa/h, indicando uma construção estanque para um funcionamento estável a longo prazo.
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Configurações de aquecimento
- À base de grafite:Utiliza feltro de carbono e folha de grafite para uma elevada eficiência térmica e uma boa relação custo-eficácia.
- Totalmente metálico:Construção em molibdénio/aço inoxidável para ambientes ultra-limpos (por exemplo, componentes aeroespaciais).
- Ambos incluem sistemas de arrefecimento a gás para um arrefecimento uniforme.
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Aplicações
- Tratamento térmico de metais (têmpera, recozimento).
- Processamento de cerâmica/vidro (sinterização, fusão).
- Fabrico de eletrónica (resistências, condensadores).
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Caraterísticas de controlo e segurança
- Controladores PID/PLC programáveis (protocolos de 51 segmentos).
- Mecanismos de proteção contra sobreaquecimento e auto-desativação.
- Integração opcional com PC para monitorização remota.
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Vantagens do material
- Baixa condutividade térmica, elevada resistência à corrosão e longa vida útil.
- Propriedades químicas estáveis para resultados repetíveis.
Já pensou em como estas especificações se alinham com os seus requisitos específicos de tratamento térmico ou sinterização? O equilíbrio entre o tamanho, a temperatura e o desempenho do vácuo dita frequentemente a adequação do forno a aplicações de nicho, como o fabrico de semicondutores ou o desenvolvimento de ligas avançadas.
Tabela de resumo:
Especificação | Detalhes |
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Tamanhos da área de trabalho | 1300x1300x2000 mm a 2000x2000x4000 mm |
Temperatura máxima | 2600°C |
Uniformidade de temperatura | ±10 a ±20°C |
Vácuo máximo | 50 Pa |
Taxa de aumento da pressão | 0,67 Pa/h |
Configurações de aquecimento | À base de grafite ou totalmente metálico (Mo/aço inoxidável) |
Aplicações | Tratamento térmico de metais, sinterização de cerâmica, fabrico de componentes electrónicos |
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