
CVD & PECVD Furnace
Máquina de forno tubular PECVD para deposição química melhorada por plasma inclinado
Número do item : KT-PED
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Temperatura de aquecimento
- ≤800℃
- Grau de vácuo
- ≤5×10-5Pa
- Potência de saída
- 500W-1000W

Envio:
Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite Garantia de envio dentro do prazo.
Máquina de revestimento por deposição de vapor químico enriquecida com plasma (PECVD)
Sistemas PECVD avançados da KINTEK: Revestimento de precisão, à medida das suas necessidades
Aproveitando a excecional I&D e o fabrico interno, a KINTEK fornece sistemas de ponta de Deposição de Vapor Químico com Plasma (PECVD) concebidos para diversos laboratórios e aplicações industriais. O PECVD é uma técnica sofisticada de deposição de película fina em vácuo que utiliza plasma para ativar gases precursores. Isto permite a criação de revestimentos uniformes e de alta qualidade a temperaturas significativamente mais baixas do que a tradicional deposição química de vapor (CVD), expandindo as possibilidades para substratos sensíveis ao calor (como plásticos) e uma gama diversificada de materiais de revestimento (incluindo dieléctricos, semicondutores e isoladores).
As nossas máquinas PECVD são uma oferta chave dentro do conjunto abrangente de soluções avançadas de fornos de alta temperatura da KINTEK, que também inclui fornos de mufla, tubo, rotativos, fornos de vácuo e atmosfera e outros sistemas CVD/MPCVD. Orgulhamo-nos da nossa forte e profunda capacidade de personalização, garantindo que o seu sistema PECVD é concebido com precisão para satisfazer os seus requisitos experimentais e de produção exclusivos.
Caraterísticas principais
As máquinas de revestimento por deposição química de vapor com plasma (PECVD) da KINTEK oferecem uma gama de caraterísticas concebidas para um desempenho superior e versatilidade:
- Deposição a baixa temperatura: Permite a formação de película de alta qualidade em substratos delicados ou de baixo ponto de fusão sem danos térmicos, alargando significativamente a compatibilidade do material.
- Altas taxas de deposição: Obtém um rápido crescimento da película, maximizando o rendimento, reduzindo o tempo de processamento e aumentando a produtividade geral.
- Películas uniformes e resistentes a fissuras: Produz revestimentos com uma consistência excecional em termos de espessura e propriedades em todo o substrato, minimizando defeitos como fissuras para resultados fiáveis e duradouros.
- Excelente adesão ao substrato: Assegura uma forte ligação entre a película depositada e o material do substrato, conduzindo a um desempenho duradouro e evitando a delaminação.
- Capacidades de revestimento versáteis: Suporta a deposição de uma vasta gama de materiais, como SiO2, SiNx, SiOxNy, entre outros, satisfazendo diversas necessidades de aplicação.
- Revestimento conformacional em geometrias complexas: Capaz de revestir uniformemente substratos com formas e topografias complexas, garantindo uma cobertura abrangente e um desempenho ótimo.
- Design de fácil utilização: Concebida para requisitos de manutenção reduzidos e instalação simples, minimizando o tempo de inatividade e simplificando a integração no seu fluxo de trabalho.
Especificações técnicas
Suporte de amostras | Tamanho | 1-6 polegadas |
Velocidade de rotação | 0-20rpm ajustável | |
Temperatura de aquecimento | ≤800℃ | |
Precisão de controlo | ±0.5℃ Controlador PID SHIMADEN | |
Purga de gás | Medidor de fluxo | CONTROLADOR DE CAUDALÍMETRO DE MASSA (MFC) |
Canais | 4 canais | |
Método de arrefecimento | Arrefecimento por circulação de água | |
Câmara de vácuo | Tamanho da câmara | Φ500mm X 550mm |
Porta de observação | Porta de visualização total com deflector | |
Material da câmara | Aço inoxidável 316 | |
Tipo de porta | Porta de abertura frontal | |
Material da tampa | Aço inoxidável 304 | |
Porta da bomba de vácuo | Flange CF200 | |
Orifício de entrada de gás | Conector φ6 VCR | |
Potência do plasma | Fonte de energia | Potência DC ou potência RF |
Modo de acoplamento | Acoplado indutivamente ou capacitivo de placa | |
Potência de saída | 500W-1000W | |
Potência de polarização | 500v | |
Bomba de vácuo | Pré-bomba | Bomba de vácuo de palhetas 15L/S |
Porto da bomba turbo | CF150/CF200 620L/S-1600L/S | |
Porta de alívio | KF25 | |
Velocidade da bomba | Bomba de palhetas:15L/s,Bomba turbo:1200l/soHan_6216↩1600l/s | |
Grau de vácuo | ≤5×10-5Pa | |
Sensor de vácuo | Medidor de vácuo de ionização / resistência / medidor de filme | |
Sistema de vácuo | Fonte de alimentação eléctrica | AC 220V /380 50Hz |
Potência nominal | 5kW | |
Dimensões | 900mm X 820mm X870mm | |
Peso da máquina | 200kg |
Aplicações
As máquinas de revestimento PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) da KINTEK oferecem uma solução versátil para uma vasta gama de indústrias e aplicações de ponta:
- Iluminação LED: Deposição de películas dieléctricas e semicondutoras de alta qualidade, cruciais para diodos emissores de luz (LEDs) eficientes e duráveis.
- Semicondutores de potência: Formação de camadas isolantes, óxidos de porta e outros componentes críticos de película em dispositivos semicondutores de potência.
- MEMS (Sistemas Microelectromecânicos): Fabrico de películas finas precisas para sensores, actuadores e outros dispositivos à microescala.
- Revestimentos ópticos: Deposição de revestimentos antirreflexo, filtros ópticos, camadas protectoras e outros componentes ópticos funcionais.
- Células solares de película fina: Produção de películas finas de silício amorfo e microcristalino, bem como de outros materiais semicondutores, para dispositivos fotovoltaicos.
- Modificação de superfícies: Melhoria das propriedades da superfície do material, incluindo maior resistência à corrosão, resistência ao desgaste, dureza e biocompatibilidade.
- Nanotecnologia: Síntese de nanomateriais avançados, tais como nanopartículas, nanofios e películas ultrafinas para novas aplicações.
Porquê uma parceria com a KINTEK para a tecnologia PECVD?
Escolher a KINTEK para as suas necessidades PECVD significa investir em qualidade, fiabilidade e soluções personalizadas:
- Personalização profunda: Somos especializados na configuração de sistemas PECVD de acordo com as suas especificações exactas, garantindo um desempenho ótimo para as suas aplicações e objectivos de investigação exclusivos.
- I&D e fabrico avançados: A nossa experiência interna impulsiona a inovação, permitindo-nos oferecer tecnologia PECVD de ponta.
- Construção de alta qualidade: Os nossos sistemas apresentam designs rígidos construídos com materiais de primeira qualidade, como o aço inoxidável, para estabilidade, durabilidade e vida útil alargada.
- Desempenho fiável: Concebidas para resultados consistentes, as nossas máquinas PECVD produzem películas finas uniformes e de alta qualidade com excelente aderência.
- Suporte abrangente: Desde a fácil instalação até aos baixos requisitos de manutenção, garantimos que os nossos sistemas são fáceis de utilizar e apoiados por um serviço de apoio ao cliente de resposta rápida.
- Versatilidade: As nossas máquinas podem depositar uma vasta gama de materiais, tornando-as adequadas para diversos processos industriais e de investigação.
Princípio de funcionamento
A Deposição de Vapor Químico Melhorada por Plasma (PECVD) é um processo que utiliza plasma (um gás ionizado) para estimular e melhorar as reacções químicas durante o processo de deposição de película fina. Ao contrário do CVD convencional, que se baseia apenas em altas temperaturas para conduzir as reacções, o PECVD utiliza plasma de alta energia. Este plasma energiza os gases precursores, levando à formação de espécies reactivas a temperaturas de substrato significativamente mais baixas. Estas espécies reactivas são então adsorvidas na superfície do substrato e sofrem reacções químicas para formar uma película sólida e fina. Este método permite a deposição de várias películas de alta qualidade, como SiO2, SiNx e SiOxNy, e é particularmente eficaz para criar películas finas de silício amorfo ou microcristalino utilizadas em células solares. As temperaturas de processamento mais baixas minimizam o stress térmico nos substratos, reduzem os furos e evitam fissuras, tornando o PECVD ideal para uma gama mais vasta de materiais e aplicações.
Personalize a sua solução PECVD com a KINTEK
Pronto para elevar as suas capacidades de deposição de película fina? Os especialistas da KINTEK estão à disposição para discutir as necessidades e desafios específicos do seu projeto. Podemos ajudá-lo a configurar um sistema de Deposição de Vapor Químico Melhorado por Plasma perfeitamente adaptado aos seus requisitos experimentais ou de produção. Beneficie da nossa profunda experiência em personalização e tecnologia avançada para obter resultados superiores.
Contacte-nos hoje para explorar a sua solução PECVD personalizada!
FAQ
O Que é Um Forno Tubular E Como Funciona?
Quais São As Principais Aplicações De Um Forno Tubular Rotativo?
Qual é O Princípio De Um Forno Rotativo?
Para Que é Utilizado Um Forno Rotativo?
Quais São As Principais Aplicações Dos Fornos Tubulares Multi-zona?
Quais São As Aplicações Comuns De Um Forno De Tubos Divididos?
O Que é Um Forno Tubular Vertical?
Quais São As Principais Aplicações Dos Fornos Tubulares?
Quais São As Principais Caraterísticas De Um Forno Tubular Rotativo?
Quais São As Vantagens Da Utilização De Um Forno Rotativo?
Quais São Os Principais Tipos De Fornos Rotativos Disponíveis?
Quais São As Principais Caraterísticas Dos Fornos Tubulares Multi-zona?
Quais São As Principais Caraterísticas De Um Forno De Tubo Dividido?
Quais São As Aplicações De Um Forno Tubular Vertical?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Tubular?
Como Funciona Um Forno Tubular Rotativo?
Quais São As Principais Caraterísticas De Um Forno Rotativo?
Como é Que Um Forno Rotativo Funciona?
Como Funciona Um Forno Tubular Multi-zona?
Como Funciona Um Forno De Tubo Dividido?
Quais São As Vantagens De Um Forno Tubular Vertical?
Que Tipos De Fornos Tubulares Estão Disponíveis?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Tubular Rotativo?
Quais São As Aplicações Mais Comuns De Um Forno Rotativo?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Rotativo?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Tubular Multi-zona?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno De Tubos Divididos?
Como é Que Um Forno Tubular Vertical Funciona?
Que Gamas De Temperatura Podem Atingir Os Fornos Tubulares?
Que Temperatura Pode Atingir Um Forno Tubular Rotativo?
Como é Que Um Forno Rotativo Lida Com Diferentes Materiais?
Que Caraterísticas De Segurança Estão Incluídas Nos Fornos Rotativos?
Que Tipos De Fornos Tubulares Multi-zona Estão Disponíveis?
Que Temperatura Pode Atingir Um Forno De Tubos Divididos?
Que Tipos De Fornos Tubulares Verticais Estão Disponíveis?
Os Fornos Tubulares Podem Funcionar Sob Diferentes Atmosferas?
Que Tipos De Materiais Podem Ser Processados Num Forno Tubular Rotativo?
Os Fornos Rotativos Podem Ser Personalizados Para Aplicações Específicas?
Porque é Que O Design Dividido é Benéfico Num Forno Tubular?
Porquê Escolher Um Forno Tubular Vertical Em Vez De Um Horizontal?
O Que Torna Os Fornos Tubulares KINTEK Especiais?
Que Gamas De Temperatura Podem Atingir Os Fornos Tubulares Verticais?
Os Fornos Tubulares Verticais São Personalizáveis?
4.8
out of
5
This machine is a game-changer! The precision and efficiency are unmatched. Worth every penny!
4.9
out of
5
Incredible technology! The inclined rotary feature makes all the difference. Superb quality!
4.7
out of
5
Fast delivery and easy setup. The performance exceeds expectations. Highly recommend!
4.9
out of
5
Top-notch durability and advanced features. This machine is built to last. Impressive!
4.8
out of
5
The PECVD process is flawless. Such a reliable and high-quality machine. Love it!
4.7
out of
5
Great value for money. The technology is cutting-edge and the results are consistent.
4.9
out of
5
Exceptional performance! The rotary design enhances uniformity. A must-have for labs!
4.8
out of
5
Outstanding machine! The plasma enhancement is brilliant. Delivered faster than expected.
4.7
out of
5
Perfect for high-throughput applications. The build quality is exceptional. Very satisfied!
4.9
out of
5
Innovative and reliable. The inclined tube design is genius. Works like a charm!
4.8
out of
5
Fantastic investment! The machine delivers consistent, high-quality results. Highly impressed!
Produtos
Máquina de forno tubular PECVD para deposição química melhorada por plasma inclinado
SOLICITAR UM ORÇAMENTO
Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!
Produtos relacionados

Máquina de forno tubular PECVD para deposição química melhorada por plasma inclinado
Forno tubular PECVD avançado para deposição precisa de película fina. Aquecimento uniforme, fonte de plasma RF, controlo de gás personalizável. Ideal para investigação de semicondutores.

Forno tubular Slide PECVD com gaseificador líquido Máquina PECVD
Forno tubular KINTEK Slide PECVD: Deposição de película fina de precisão com plasma RF, ciclo térmico rápido e controlo de gás personalizável. Ideal para semicondutores e células solares.

1700℃ Forno tubular de laboratório de alta temperatura com tubo de quartzo ou de alumina
Forno tubular da KINTEK com tubo de alumina: Aquecimento de precisão até 1700°C para síntese de materiais, CVD e sinterização. Compacto, personalizável e pronto para vácuo. Explore agora!

1400℃ Forno tubular de laboratório de alta temperatura com tubo de quartzo e alumina
Forno tubular com tubo de alumina da KINTEK: Processamento de precisão a alta temperatura até 2000°C para laboratórios. Ideal para síntese de materiais, CVD e sinterização. Opções personalizáveis disponíveis.

Forno Rotativo Elétrico Pequeno Forno Rotativo para Regeneração de Carvão Ativado
Forno elétrico de regeneração de carvão ativado da KINTEK: Forno rotativo automatizado de alta eficiência para uma recuperação sustentável do carbono. Minimizar os resíduos, maximizar as poupanças. Obter um orçamento!

Sistema RF PECVD Deposição de vapor químico enriquecida com plasma de radiofrequência
Sistema PECVD RF KINTEK: Deposição de película fina de precisão para semicondutores, ótica e MEMS. Processo automatizado e de baixa temperatura com qualidade de película superior. Soluções personalizadas disponíveis.

Forno tubular vertical de quartzo para laboratório Forno tubular
Forno Tubular Vertical de Precisão KINTEK: 1800℃ de aquecimento, controlo PID, personalizável para laboratórios. Ideal para CVD, crescimento de cristais e testes de materiais.

O forno rotativo de pirólise de biomassa da KINTEK converte a biomassa em biochar, bio-óleo e gás de síntese de forma eficiente. Personalizável para investigação ou produção. Obtenha a sua solução agora!

1200℃ Forno de tubo dividido Forno de tubo de quartzo para laboratório com tubo de quartzo
Descubra o forno de tubo dividido de 1200 ℃ da KINTEK com tubo de quartzo para aplicações precisas de laboratório de alta temperatura. Personalizável, durável e eficiente. Obtenha o seu agora!

Forno tubular de vácuo de laboratório de alta pressão Forno tubular de quartzo
Forno tubular de alta pressão KINTEK: Aquecimento de precisão até 1100°C com controlo de pressão de 15Mpa. Ideal para sinterização, crescimento de cristais e investigação laboratorial. Soluções personalizáveis disponíveis.

Forno tubular de quartzo para laboratório Forno tubular de aquecimento RTP
O forno tubular de aquecimento rápido RTP da KINTEK proporciona um controlo preciso da temperatura, um aquecimento rápido até 100°C/seg e opções de atmosfera versáteis para aplicações laboratoriais avançadas.

Forno tubular rotativo de trabalho contínuo selado a vácuo Forno tubular rotativo
Forno tubular rotativo de precisão para processamento contínuo em vácuo. Ideal para calcinação, sinterização e tratamento térmico. Personalizável até 1600℃.

Máquina de diamante KINTEK MPCVD: Síntese de diamante de alta qualidade com tecnologia MPCVD avançada. Crescimento mais rápido, pureza superior, opções personalizáveis. Aumente a produção agora!

Foles de vácuo de elevado desempenho para uma ligação eficiente e vácuo estável em sistemas
Janela de observação de ultra-alto vácuo KF com vidro de alto borossilicato para uma visualização clara em ambientes exigentes de 10^-9 Torr. Flange em aço inoxidável 304 durável.

Disilicida de molibdénio MoSi2 Elementos de aquecimento térmico para forno elétrico
Elementos de aquecimento MoSi2 de alto desempenho para laboratórios, atingindo 1800°C com resistência superior à oxidação. Personalizável, durável e fiável para aplicações de alta temperatura.

Passagem fiável de eléctrodos de vácuo com flange CF/KF para sistemas de vácuo de elevado desempenho. Garante uma vedação, condutividade e durabilidade superiores. Opções personalizáveis disponíveis.

Válvula de paragem de esfera de alto vácuo em aço inoxidável 304 316 para sistemas de vácuo
As válvulas de esfera de vácuo e válvulas de paragem em aço inoxidável 304/316 da KINTEK garantem uma vedação de alto desempenho para aplicações industriais e científicas. Explore soluções duradouras e resistentes à corrosão.

Forno de prensagem a vácuo a quente Máquina de prensagem a vácuo aquecida
Forno de prensagem a quente sob vácuo KINTEK: Aquecimento e prensagem de precisão para uma densidade de material superior. Personalizável até 2800°C, ideal para metais, cerâmicas e compósitos. Explore os recursos avançados agora!