Produtos Fornos de Alta Temperatura MPCVD 915MHz MPCVD Máquina de Diamante Sistema de Deposição de Vapor Químico por Plasma de Micro-ondas Reator
915MHz MPCVD Máquina de Diamante Sistema de Deposição de Vapor Químico por Plasma de Micro-ondas Reator

MPCVD

915MHz MPCVD Máquina de Diamante Sistema de Deposição de Vapor Químico por Plasma de Micro-ondas Reator

Número do item : MP-CVD-101

O preço varia com base em especificações e personalizações


Potência de saída
3-75kW continuamente ajustável
Diâmetro da plataforma de amostragem
≥200mm
Frequência de funcionamento
915±15MHz
ISO & CE icon

Envio:

Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite Garantia de envio dentro do prazo.

Ver Especificações

Por Que Nos Escolher

Processo de pedido fácil, produtos de qualidade e suporte dedicado para o sucesso do seu negócio.

Processo Fácil Qualidade Garantida Suporte Dedicado

Máquina de Diamante KINTEK MPCVD: Revolucionando a Síntese de Diamantes

A Máquina de Diamante KINTEK MPCVD aproveita a Deposição de Vapor Químico por Plasma de Micro-ondas (MPCVD) para sintetizar diamantes de alta qualidade com velocidade e precisão sem precedentes. Esta tecnologia avançada permite um crescimento mais rápido do cristal, maior capacidade de produção e melhor qualidade do diamante em comparação com os métodos tradicionais.

Visão geral e componentes principais

Detalhes do MPCVD

Detalhes do MPCVD

Desbloqueie a Produção Superior de Diamantes com a KINTEK

A nossa máquina de diamante MPCVD oferece vantagens significativas para as suas necessidades de síntese de diamantes:

  • Crescimento Acelerado de Cristais: Atinge velocidades de crescimento 10-100 vezes mais rápidas do que os métodos tradicionais, aumentando significativamente a eficiência da produção.
  • Maior capacidade de produção: Sintetiza lotes maiores de diamantes em uma única execução, maximizando a sua produção.
  • Qualidade Excecional dos Diamantes: Produzir diamantes com maior dureza e resistência do que os diamantes naturais, garantindo durabilidade e desempenho superiores.
  • Diversas opções de cores: Crie diamantes em uma variedade de cores, incluindo branco, amarelo, rosa e azul, para atender às diversas demandas do mercado e preferências estéticas.
  • Pureza inigualável: Atingir níveis de pureza mais elevados do que os diamantes naturais do Tipo II, resultando em propriedades ópticas excepcionais e adequação a aplicações avançadas.
  • Adaptado às suas necessidades: Beneficie-se da personalização de vários estilos. Podemos adaptar os designs para atender a requisitos específicos do mercado e configurações experimentais exclusivas.

A ciência por detrás do brilho: Tecnologia MPCVD avançada

A deposição de vapor químico por plasma de micro-ondas (MPCVD) é um processo sofisticado em que uma fonte de micro-ondas contínua gera e mantém um plasma altamente reativo. Este plasma é composto por produtos químicos reactivos (normalmente metano e hidrogénio) e catalisadores essenciais, que são depois utilizados para cultivar novas camadas de diamante num substrato semeado de diamante.

A Máquina de Diamante MPCVD da KINTEK permite um controlo preciso da potência de micro-ondas e da temperatura de reação, eliminando eficazmente os problemas comuns encontrados noutros métodos CVD. Ao otimizar o design da câmara de reação e os parâmetros do processo, consegue-se uma descarga de plasma estável - um fator crucial para a produção consistente de diamantes monocristalinos de alta qualidade e tamanho grande.

Aplicações versáteis em todos os setores

As propriedades únicas dos diamantes produzidos pelas nossas máquinas MPCVD - incluindo dureza e rigidez excepcionais, alta condutividade térmica, baixa expansão térmica, dureza à radiação e inércia química - tornam-nos inestimáveis em vários sectores:

  • Indústria de pedras preciosas: O principal equipamento para o cultivo de pedras preciosas de diamante de alta qualidade e de grandes dimensões.
  • Materiais avançados e semicondutores: Produção de películas de diamante para diversas aplicações, incluindo substratos de diamante de grandes dimensões para a indústria de semicondutores e ferramentas de corte ou perfuração de diamante de elevado desempenho.
  • Ferramentas industriais: Desenvolvimento de revestimentos de diamante para ferramentas de corte, brocas e outras aplicações industriais em que a dureza e a durabilidade extremas são fundamentais.
  • Setor biomédico: Criação de revestimentos diamantados biocompatíveis e duradouros para implantes médicos, tais como articulações artificiais e implantes dentários.
  • Optoelectrónica: Fabrico de janelas e substratos de diamante para lasers de alta potência, detectores e outros dispositivos optoelectrónicos em que a elevada condutividade térmica e a baixa expansão térmica são fundamentais.

Especificações técnicas

Sistema de micro-ondas (de acordo com a fonte de alimentação opcional)

  • Frequência de funcionamento:915±15MHz
  • Potência de saída:3-75kW continuamente ajustável
  • Caudal de água de arrefecimento:120/min
  • Coeficiente de onda estacionária do sistema: VSWR≤1,5
  • Fuga de micro-ondas:

Sistema de vácuo e câmara de reação

  • Taxa de fuga
  • A pressão final é inferior a 0,7Pa (esta máquina é fornecida com um medidor de vácuo Pirani importado)
  • O aumento da pressão na cavidade não deve exceder 50Pa após 12 horas de manutenção da pressão.
  • Modo de funcionamento da câmara de reação: Modo TM021 ou TM023
  • Tipo de cavidade: cavidade cilíndrica arrefecida, pode transportar energia até 75KW, alta pureza, vedação de anel de pedra.
  • Método de entrada: Entrada da cabeça de aspersão superior.
  • Janela de medição da temperatura de observação: 8 orifícios de observação, distribuídos uniformemente na horizontal.
  • Porta de amostragem: porta de amostragem de elevação inferior

Sistema de suporte de amostras

  • Diâmetro do estágio da amostra ≥200mm, área de uso efetivo de cristal único ≥130mm, A área de uso efetivo do policristalino é ≥200mm. Estrutura sanduíche refrigerada a água da plataforma de substrato, vertical para cima e para baixo.

Sistema de gás

  • Placa de gás totalmente soldada em metal 5-7 linhas de gás
  • Todos os circuitos de ar internos do equipamento utilizam conectores de soldadura ou VCR.

Arrefecimento do sistema

  • Arrefecimento por água de 3 vias, monitorização em tempo real da temperatura e do caudal.
  • Fluxo de água de arrefecimento do sistema 120L/min, pressão da água de arrefecimento

Método de medição da temperatura

  • Termómetro de infravermelhos externo, gama de temperaturas 3001400 M

Lista de peças-chave do equipamento SL901A

Número de série Nome do módulo Observações
1 Fonte de alimentação de micro-ondas Magnetrão doméstico padrão: Yingjie Electric / Fonte de alimentação distinta Fonte doméstica de estado sólido: Watson (+30.000) Magnetrão importado: MKS/ pastoral (+100.000)
2 Guia de onda, três pinos, conversor de modo, ressonador superior Fabricação própria
3 Câmara de reação em vácuo (câmara superior, câmara inferior, conectores) Fabricação própria
4 Termómetros de infravermelhos, componentes de deslocamento ótico, suportes Termómetros de infravermelhos, componentes de deslocamento ótico, suportes Fuji Gold Siemens + Schneider
5 Componentes de movimento de mesa arrefecidos a água (cilindros, peças, etc.)
6 Medidor de vácuo de película fina de cerâmica, medidor de vácuo Pirani Inficon
7 Componentes de válvulas de vácuo (válvula de ultra-alto vácuo, válvula pneumática de precisão*2, válvula diferencial de carga de vácuo electromagnética) Fujikin + Zhongke + Himat
8 Bomba de vácuo e acessórios para tubos de ligação, T, foles KF25*2, adaptador Bomba: Flyover 16L
9 Anel de vedação metálico para micro-ondas*2; anel de vedação metálico para vácuo*1; placa de quartzo Quartzo: Shanghai Feilihua Quartzo de alta pureza para semicondutores
10 Componentes de circulação de água (juntas, blocos de desvio, detectores de fluxo) SMC/CKD japonês
11 Componentes pneumáticos (filtro CKD, válvula solenoide multidirecional airtac, acessórios para tubos e adaptadores)
12 Conector de gás, tubo de gás EP, conetor VCR, filtro 0,0023μm *1, filtro 10μm*2 Fujikin
13 Caixa da máquina, mesa de aço inoxidável, rodas universais, pés, parafusos de fixação do suporte, etc processamento personalizado
14 Medidor de fluxo de gás*6 (incluindo um controlo de pressão) Standard sete estrelas, opcional Fuji Gold (+34.000) / Alicat (42.000)
15 Processamento de placas de gás (gás de 5 vias, filtro*5, válvula pneumática*5, válvula manual*6, soldadura de condutas) Fuji Gold
16 Controlo automático PLC Siemens + Schneider
17 Mesa de molibdénio

Parceria com a KINTEK para as suas necessidades de materiais avançados

Aproveitando a excecional I&D e o fabrico interno, a KINTEK especializa-se em soluções avançadas de fornos de alta temperatura como a Máquina de Diamante MPCVD. Orgulhamo-nos da nossa forte e profunda capacidade de personalização, garantindo que os nossos sistemas, incluindo este avançado equipamento de síntese de diamantes, satisfazem com precisão os seus requisitos experimentais e de produção exclusivos.

Pronto para elevar a sua síntese de diamantes? A máquina de diamante MPCVD da KINTEK oferece precisão e eficiência inigualáveis. Contacte-nos hoje para discutir os seus requisitos específicos e descobrir como a nossa tecnologia pode elevar as suas operações. Preencha o formulário abaixo ou clique aqui para começar e solicitar um orçamento ou consulta!

Confiado pelos Líderes da Indústria

Nossos Clientes Parceiros

FAQ

Qual é O Princípio De Funcionamento De Uma Máquina MPCVD?

Uma máquina MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) funciona utilizando um gerador de micro-ondas para produzir plasma através da ionização de uma mistura de gases. Este plasma é alojado numa câmara de reação sob baixa pressão, onde o substrato é mantido no lugar por um suporte de substrato. Os componentes principais incluem um gerador de micro-ondas, uma câmara de plasma, um sistema de fornecimento de gás, um suporte de substrato e um sistema de vácuo.

Quais São As Vantagens De Utilizar Uma Máquina MPCVD?

As máquinas MPCVD oferecem várias vantagens: eliminam a contaminação por fios quentes (descarga não polar), permitem a utilização de vários gases, proporcionam um controlo estável da temperatura de reação, permitem uma descarga de plasma estável em grandes áreas e oferecem um controlo preciso da espessura da película, da pureza e da qualidade do cristal. Além disso, produzem películas de diamante de grande área, asseguram condições estáveis, mantêm uma qualidade de amostra consistente e são económicos.

Quais São As Principais Aplicações Das Máquinas MPCVD?

As máquinas MPCVD são usadas principalmente para a síntese de diamantes de alta pureza cultivados em laboratório, incluindo filmes de diamante e outros materiais avançados. As suas aplicações estendem-se à investigação de semicondutores, à ótica e aos MEMS (Sistemas Micro-Electro-Mecânicos) devido à sua capacidade de produzir películas homogéneas de alta qualidade com um controlo preciso.

Quais São Os Principais Componentes De Uma Máquina MPCVD?

Os principais componentes de uma máquina MPCVD incluem um gerador de micro-ondas (para produzir plasma), uma câmara de reação (para alojar o substrato e a mistura de gás a baixa pressão), um suporte de substrato (para segurar o substrato durante a deposição), um sistema de fornecimento de gás (para introduzir e controlar a mistura de gás) e um sistema de vácuo (para manter o ambiente de baixa pressão necessário).

Como é Que Uma Máquina MPCVD Aumenta A Eficiência Energética?

Uma máquina MPCVD aumenta a eficiência energética através do seu processo sem eléctrodos, que reduz a contaminação e a perda de energia. A geração de plasma de micro-ondas é altamente eficiente e o design modular e escalável do sistema permite uma utilização optimizada da energia em várias aplicações industriais.

Porque é Que A MPCVD é Preferida Para O Crescimento De Diamantes?

O MPCVD é preferido para o crescimento do diamante porque fornece uma alta densidade de partículas carregadas e espécies reactivas, permite a deposição de películas de diamante de grande área a pressões mais baixas e garante uma melhor homogeneidade nas películas crescidas. Estas caraterísticas resultam em diamantes de elevada pureza e qualidade, com um controlo preciso das suas propriedades.
Veja mais perguntas frequentes sobre este produto

Folha de Dados do Produto

915MHz MPCVD Máquina de Diamante Sistema de Deposição de Vapor Químico por Plasma de Micro-ondas Reator

Catálogo de Categorias

Mpcvd


SOLICITAR UM ORÇAMENTO

Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!

Produtos relacionados

Sistema de Máquina MPCVD com Ressonador Cilíndrico para Crescimento de Diamante em Laboratório

Sistema de Máquina MPCVD com Ressonador Cilíndrico para Crescimento de Diamante em Laboratório

Sistemas KINTEK MPCVD: Produza filmes de diamante de alta qualidade com precisão. Fiáveis, eficientes em termos energéticos e fáceis de utilizar por principiantes. Suporte especializado disponível.

Ver detalhes
Sistema de Máquina MPCVD Reator Ressonador de campânula para laboratório e crescimento de diamante

Sistema de Máquina MPCVD Reator Ressonador de campânula para laboratório e crescimento de diamante

Sistemas KINTEK MPCVD: Máquinas de crescimento de diamantes de precisão para diamantes de alta pureza cultivados em laboratório. Fiáveis, eficientes e personalizáveis para a investigação e a indústria.

Ver detalhes
Sistema de máquina HFCVD Equipamento para revestimento de nano diamante de matriz de desenho

Sistema de máquina HFCVD Equipamento para revestimento de nano diamante de matriz de desenho

O sistema HFCVD da KINTEK fornece revestimentos de nano-diamante de alta qualidade para matrizes de trefilagem, aumentando a durabilidade com dureza e resistência ao desgaste superiores. Explore soluções de precisão agora!

Ver detalhes
Máquina de forno tubular CVD com várias zonas de aquecimento para equipamento de deposição química de vapor

Máquina de forno tubular CVD com várias zonas de aquecimento para equipamento de deposição química de vapor

Os fornos tubulares CVD multi-zona da KINTEK oferecem um controlo preciso da temperatura para deposição avançada de película fina. Ideal para investigação e produção, personalizável de acordo com as necessidades do seu laboratório.

Ver detalhes
Forno de Tubo PECVD de Deposição Química de Vapor Assistida por Plasma Rotativo Inclinado

Forno de Tubo PECVD de Deposição Química de Vapor Assistida por Plasma Rotativo Inclinado

Forno de tubo PECVD avançado para deposição precisa de filmes finos. Aquecimento uniforme, fonte de plasma RF, controle de gás personalizável. Ideal para pesquisa de semicondutores.

Ver detalhes
Forno tubular de deposição química melhorada por plasma rotativo inclinado - Máquina PECVD

Forno tubular de deposição química melhorada por plasma rotativo inclinado - Máquina PECVD

A máquina de revestimento PECVD da KINTEK produz filmes finos de precisão em baixas temperaturas para LEDs, células solares e MEMS. Soluções personalizáveis de alto desempenho.

Ver detalhes
Forno de Tubo PECVD Deslizante com Máquina PECVD de Gaseificador de Líquidos

Forno de Tubo PECVD Deslizante com Máquina PECVD de Gaseificador de Líquidos

Forno de Tubo PECVD Deslizante KINTEK: Deposição de filmes finos de precisão com plasma RF, ciclagem térmica rápida e controle de gás personalizável. Ideal para semicondutores e células solares.

Ver detalhes
Forno tubular CVD versátil feito à medida Máquina de equipamento de deposição química de vapor CVD

Forno tubular CVD versátil feito à medida Máquina de equipamento de deposição química de vapor CVD

O forno tubular CVD da KINTEK oferece um controlo preciso da temperatura até 1600°C, ideal para a deposição de películas finas. Personalizável para necessidades industriais e de investigação.

Ver detalhes
Forno tubular CVD de câmara dividida com máquina CVD de estação de vácuo

Forno tubular CVD de câmara dividida com máquina CVD de estação de vácuo

Forno tubular CVD de câmara dividida com estação de vácuo - Forno de laboratório de alta precisão a 1200°C para investigação de materiais avançados. Soluções personalizáveis disponíveis.

Ver detalhes
Sistema RF PECVD Deposição de vapor químico enriquecida com plasma de radiofrequência

Sistema RF PECVD Deposição de vapor químico enriquecida com plasma de radiofrequência

Sistema PECVD RF KINTEK: Deposição de película fina de precisão para semicondutores, ótica e MEMS. Processo automatizado e de baixa temperatura com qualidade de película superior. Soluções personalizadas disponíveis.

Ver detalhes
Máquina de forno de prensagem a quente com vácuo para laminação e aquecimento

Máquina de forno de prensagem a quente com vácuo para laminação e aquecimento

Prensa de laminação a vácuo KINTEK: Colagem de precisão para aplicações de wafer, película fina e LCP. Temperatura máxima de 500°C, pressão de 20 toneladas, certificação CE. Soluções personalizadas disponíveis.

Ver detalhes

Artigos relacionados

Como os Métodos de Síntese de Diamante CVD se Comparam para Aplicações Industriais

Como os Métodos de Síntese de Diamante CVD se Comparam para Aplicações Industriais

Compare os métodos de síntese de diamante CVD (HFCVD, DC Plasma Arc Jet, MPCVD) quanto a custo, qualidade e aplicações industriais como ferramentas, óptica e tecnologia quântica.

Descubra mais
Por Que Seus Resultados de Síntese de Alta Temperatura São Não Confiáveis — E Como Corrigi-los

Por Que Seus Resultados de Síntese de Alta Temperatura São Não Confiáveis — E Como Corrigi-los

Lutando com resultados inconsistentes na síntese de materiais, CVD ou recozimento? Descubra que a causa oculta do fracasso é o ambiente do seu forno, não o seu processo.

Descubra mais
Resolvendo o dilema da união: Por que as ligas de alta resistência precisam de mais do que apenas pressão

Resolvendo o dilema da união: Por que as ligas de alta resistência precisam de mais do que apenas pressão

Descubra como as camadas intermediárias de folha metálica multicamadas resolvem problemas de deformação na união por difusão de ligas ODS, garantindo integridade em nível atômico com pressões mais baixas.

Descubra mais
Por que o seu grafeno derivado de biomassa carece de uniformidade — e o segredo térmico para corrigi-lo

Por que o seu grafeno derivado de biomassa carece de uniformidade — e o segredo térmico para corrigi-lo

Está com dificuldades com grafeno decorado com prata inconsistente? Aprenda como reatores APCVD e fornos a vácuo de SiC garantem uma distribuição uniforme de nanopartículas e uma síntese de alta qualidade.

Descubra mais
Por que as suas ligas superelásticas falham no desempenho — e como a precisão em estado sólido resolve isso

Por que as suas ligas superelásticas falham no desempenho — e como a precisão em estado sólido resolve isso

Descubra por que a fundição tradicional falha com ligas superelásticas de Ti-Ni-X e como a Sinterização por Plasma de Centelha (SPS) proporciona um controle preciso da composição e uma microestrutura fina.

Descubra mais
Por que a sua síntese de pó composto falha em altas temperaturas — e como estabilizar a "onda de combustão"

Por que a sua síntese de pó composto falha em altas temperaturas — e como estabilizar a "onda de combustão"

Descubra como os reatores SHS de alta pressão resolvem a volatilização e a inconsistência na síntese de pó de ZrSi2–MoSi2–ZrB2 através da redução magnesiotérmica controlada.

Descubra mais
O Coração Frio do Forno: Dominando a Dessublimação na Recuperação de Magnésio

O Coração Frio do Forno: Dominando a Dessublimação na Recuperação de Magnésio

Uma visão sobre os compromissos físicos e de engenharia dos cristalizadores de condensação, a chave para a pureza e o rendimento na recuperação de vapor de magnésio.

Descubra mais

Tags quentes