Produtos High Temperature Furnaces MPCVD Sistema de Máquina MPCVD com Ressonador Cilíndrico para Crescimento de Diamante em Laboratório
Sistema de Máquina MPCVD com Ressonador Cilíndrico para Crescimento de Diamante em Laboratório

MPCVD

Sistema de Máquina MPCVD com Ressonador Cilíndrico para Crescimento de Diamante em Laboratório

Número do item : KTWB315

O preço varia com base em especificações e personalizações


Potência de saída de micro-ondas
1~10 KW continuamente ajustável
Área de crescimento do substrato
3 polegadas
Carga máxima do lote
45 peças de diamantes
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Aproveitando a excecional I&D e o fabrico interno, a KINTEK fornece a diversos laboratórios soluções avançadas de fornos de alta temperatura, incluindo os nossos sistemas MPCVD de vanguarda. A nossa linha de produtos, que engloba fornos de mufla, tubulares, rotativos, fornos de vácuo e de atmosfera e vários sistemas CVD/PECVD/MPCVD, é complementada pela nossa forte capacidade de personalização profunda para satisfazer com precisão os seus requisitos experimentais únicos.

Sistemas KINTEK MPCVD: Produza Filmes de Diamante de Alta Qualidade com Precisão

Sistema KinTek MPCVD

Os nossos sistemas de Deposição de Vapor Químico por Plasma de Micro-ondas (MPCVD) foram concebidos para laboratórios e indústrias que pretendem produzir películas de diamante de qualidade superior. Ao utilizar um gás contendo carbono e um plasma de micro-ondas, a tecnologia MPCVD da KINTEK oferece um método fiável e eficiente para a síntese de diamante.

Por que escolher o sistema MPCVD da KINTEK?

Com anos de profundo envolvimento na indústria e uma vasta base de clientes, o equipamento MPCVD da KINTEK é confiável pelo seu desempenho e fiabilidade. Os nossos sistemas têm demonstrado:

  • Estabilidade e fiabilidade excepcionais: Comprovado com mais de 40.000 horas de funcionamento estável.
  • Repetibilidade e relação custo-eficácia: Fornecem consistentemente resultados de alta qualidade de forma eficiente.
  • Alta capacidade: Área de crescimento de substrato de 3 polegadas, com uma carga máxima de lote de até 45 peças de diamantes.
  • Eficiência energética: Potência de micro-ondas de saída ajustável de 1-10KW para reduzir o consumo de eletricidade.
  • Apoio especializado: Apoiado por uma equipa de investigação altamente experiente que oferece apoio à receita de cultivo de diamantes de fronteira.
  • Amigável para principiantes: Programa de apoio técnico exclusivo para equipas com pouca experiência no cultivo de diamantes.

Aproveitando a nossa tecnologia avançada acumulada, implementámos várias rondas de actualizações e melhorias no nosso sistema MPCVD, resultando numa eficiência significativamente melhorada e em custos de equipamento reduzidos. Como resultado, o nosso equipamento MPCVD está na vanguarda dos avanços tecnológicos e é oferecido a um preço competitivo. Pronto para melhorar as suas capacidades de crescimento de diamantes? Consulte nossos especialistas hoje mesmo!

Simulação KinTek MPCVD
Simulação KinTek MPCVD

Demonstração Visual: Resultados com KINTEK MPCVD

Máquinas KINTEK MPCVD
Máquinas de diamante KINTEK MPCVD
Novo modelo de máquina de diamante KINTEK MPCVD
Novo modelo de máquina de diamante KINTEK MPCVD
Novo modelo de máquina de diamante KINTEK MPCVD
Novo modelo de máquina de diamante KINTEK MPCVD
Diamantes brutos cultivados pelo KINTEK MPCVD
Diamantes brutos cultivados pelo KINTEK MPCVD
Na máquina KinTek MPCVD, os diamantes estão crescendo
Na máquina KinTek MPCVD, os diamantes estão crescendo
Na máquina KinTek MPCVD, os diamantes estão crescendo
Na máquina KinTek MPCVD, os diamantes estão crescendo
Na máquina KinTek MPCVD, os diamantes estão crescendo
Na máquina KinTek MPCVD, os diamantes estão crescendo
Na máquina KinTek MPCVD, os diamantes estão a crescer
Na máquina KinTek MPCVD, os diamantes estão a crescer
Na máquina KinTek MPCVD, os diamantes estão crescendo
Na máquina KinTek MPCVD, os diamantes estão crescendo
Diamante bruto cultivado pela máquina KINTEK MPCVD
Diamante bruto cultivado pela máquina KINTEK MPCVD
Diamante bruto cultivado pela máquina KINTEK MPCVD
Diamante bruto cultivado pela máquina KINTEK MPCVD
Diamante bruto cultivado pela máquina KINTEK MPCVD
Diamante bruto cultivado pela máquina KINTEK MPCVD
Diamantes cultivados em MPCVD após o polimento
Diamantes cultivados por MPCVD após polimento
Policristalino por KinTek MPCVD
Policristalino por KinTek MPCVD

Principais caraterísticas e componentes do sistema

Nossos sistemas MPCVD são projetados com componentes de precisão para um ótimo desempenho durante o processo de deposição. O sistema consiste tipicamente numa câmara de vácuo, um gerador de micro-ondas (frequentemente um magnetron ou klystron a funcionar a cerca de 2,45 GHz acoplado através de uma janela de quartzo), um sistema preciso de fornecimento de gás com controladores de fluxo de massa (MFCs) e mecanismos de controlo de temperatura.

Sistema de micro-ondas

Sistema de micro-ondas

Câmara de reação

Câmara de reação

Sistema de fluxo de gás

Sistema de fluxo de gás

Sistema de vácuo e sensores

Sistema de vácuo e sensores

Especificações técnicas

Sistema de micro-ondas
  • Frequência de micro-ondas 2450±15MHZ,
  • Potência de saída 1~10 KW continuamente ajustável
  • Estabilidade da potência de saída de micro-ondas:
  • Fuga de micro-ondas ≤2MW/cm2
  • Interface de guia de onda de saída: WR340, 430 com flange padrão FD-340, 430
  • Fluxo de água de arrefecimento: 6-12L/min
  • Coeficiente de onda estacionária do sistema: VSWR ≤ 1,5
  • Ajustador manual de micro-ondas de 3 pinos, cavidade de excitação, carga de alta potência
  • Fonte de alimentação de entrada: 380VAC/50Hz ± 10%, trifásico
Câmara de reação
  • Taxa de fuga de vácuo
  • A pressão limite é inferior a 0,7 Pa (configuração padrão com medidor de vácuo Pirani)
  • O aumento da pressão da câmara não deve exceder 50Pa após 12 horas de manutenção da pressão
  • Modo de funcionamento da câmara de reação: Modo TM021 ou TM023
  • Tipo de cavidade: Cavidade ressonante cilíndrica, com potência máxima de suporte de 10KW, feita de aço inoxidável 304, com camada intermédia arrefecida a água e método de vedação com placa de quartzo de elevada pureza.
  • Modo de entrada de ar: Entrada de ar uniforme anular superior
  • Selagem a vácuo: A ligação inferior da câmara principal e a porta de injeção são seladas com anéis de borracha, a bomba de vácuo e os foles são selados com KF, a placa de quartzo é selada com um anel C metálico e o resto é selado com CF
  • Janela de observação e de medição da temperatura: 8 portas de observação
  • Porta de carregamento de amostras na frente da câmara
  • Descarga estável dentro da gama de pressão de 0,7KPa~30KPa (a pressão de alimentação deve ser igualada)
Suporte de amostras
  • Diâmetro da mesa de amostras ≥72mm, área de utilização efectiva ≥66 mm
  • Estrutura sanduíche refrigerada a água da plataforma da placa de base
  • O suporte da amostra pode ser levantado e abaixado uniformemente eletricamente na cavidade
Sistema de fluxo de gás
  • Disco de ar para soldadura de todos os metais
  • Devem ser utilizadas juntas de soldadura ou VCR para todos os circuitos internos de gás do equipamento.
  • Medidor de caudal MFC de 5 canais, H2/CH4/O2/N/Ar. H2: 1000 sccm ;CH4:100 sccm; O2: 2 sccm; N2: 2 sccm; Ar: 10 sccm
  • Pressão de trabalho 0,05-0,3MPa, precisão ±2%
  • Controlo independente da válvula pneumática para cada canal do medidor de caudal
Sistema de arrefecimento
  • 3 linhas de arrefecimento a água, monitorização em tempo real da temperatura e do caudal.
  • O caudal de água de arrefecimento do sistema é ≤ 50L/min
  • A pressão da água de arrefecimento é
Sensor de temperatura
  • O termômetro infravermelho externo tem uma faixa de temperatura de 300-1400 ℃
  • Precisão do controlo da temperatura
Sistema de controlo
  • São adoptados o PLC Siemens smart 200 e o controlo por ecrã tátil.
  • O sistema possui uma variedade de programas, que podem realizar o equilíbrio automático da temperatura de crescimento, controle preciso da pressão do ar de crescimento, aumento automático de temperatura, queda automática de temperatura e outras funções.
  • A operação estável do equipamento e a proteção abrangente do equipamento podem ser alcançadas através da monitorização do fluxo de água, temperatura, pressão e outros parâmetros, e a fiabilidade e segurança da operação podem ser garantidas através do encravamento funcional.
Função opcional
  • Sistema de monitorização central
  • Potência de base do substrato

A Vantagem do KINTEK MPCVD: Síntese Superior de Diamante

A tecnologia MPCVD da KINTEK oferece vantagens significativas para a síntese de diamantes em comparação com outros métodos como HFCVD (Hot Filament CVD) e DC-PJ CVD (Diret Current Plasma Jet CVD):

  • Diamantes de alta pureza: O MPCVD evita a contaminação do diamante por elementos como fios quentes (como no HFCVD). No nosso sistema, a esfera de plasma não entra em contacto com a parede da cavidade, garantindo um processo de crescimento sem impurezas e conduzindo a diamantes de maior pureza em comparação com os do método HPHT (High-Pressure High-Temperature).
  • Utilização versátil de gases: Permite a utilização de vários gases (por exemplo, CH4, H2, Ar, O2, N2) para satisfazer diversas necessidades industriais e adaptar as propriedades dos diamantes.
  • Controlo estável e preciso: Permite um ajuste suave e contínuo da potência de micro-ondas e um controlo estável da temperatura da reação. Isto evita problemas como a queda de sementes de cristais do substrato devido a arcos e falhas de chama, por vezes observados na CVD DC-PJ. A temperatura do substrato é controlada com precisão pela posição do plasma e medida por um termopar.
  • Plasma estável de grande área: O método MPCVD gera uma grande área de plasma de descarga estável, tornando-o o método de síntese de diamante mais promissor para aplicações industriais e aumento da produção.
  • Eficiência energética e custo-benefício para diamantes maiores: O processo de produção MPCVD normalmente consome menos energia do que o HPHT e facilita a produção de diamantes maiores e de alta qualidade a um custo potencialmente mais baixo.

Procurando uma solução de síntese de diamantes confiável e avançada que ofereça pureza e desempenho? Solicite um orçamento para o nosso sistema MPCVD!

Princípio de funcionamento: Como o KINTEK MPCVD produz diamantes

A máquina KINTEK MPCVD controla meticulosamente o ambiente de crescimento. O processo começa por controlar o fluxo de cada via de gás (gases reagentes como CH4, H2, Ar, O2, N2, etc.) e a pressão da cavidade, introduzindo estes gases na cavidade em condições específicas e estabilizadas. Quando o fluxo de ar estiver estável, o gerador de micro-ondas de estado sólido de 6KW (ou ajustável de 1-10KW) gera micro-ondas, que são então introduzidas na cavidade através de um guia de ondas.

Sob o campo de micro-ondas, o gás de reação transforma-se num estado de plasma, formando uma bola de plasma que paira sobre o substrato de diamante. A alta temperatura do plasma aquece o substrato até à temperatura específica necessária para o crescimento do diamante. O excesso de calor produzido na cavidade é dissipado de forma eficiente pela unidade de arrefecimento a água.

Para garantir condições óptimas de crescimento durante o processo de crescimento de diamante monocristalino MPCVD, factores como a potência de micro-ondas, a composição da fonte de gás e a pressão da cavidade são ajustados com precisão. A natureza sem contacto da esfera de plasma com a parede da cavidade é crucial, pois evita que as impurezas contaminem o processo de crescimento do diamante, melhorando assim a qualidade final do diamante.

Aplicações dos diamantes cultivados com KINTEK MPCVD

As propriedades exclusivas do diamante - incluindo sua extrema dureza, rigidez, alta condutividade térmica, baixa expansão térmica, dureza à radiação e inércia química - fazem dele um material altamente valioso. Embora os diamantes naturais e HPHT tenham enfrentado limitações devido ao custo, tamanho e controlo de impurezas, a tecnologia MPCVD da KINTEK abre portas para aplicações mais amplas:

  • Diamantes com qualidade de pedra preciosa: O MPCVD é um equipamento primário usado para o crescimento de pedras preciosas de diamante, oferecendo uma rota promissora para a produção de diamantes grandes de baixo custo e alta qualidade para o mercado de jóias em expansão.
  • Indústria de Semicondutores: O crescimento do filme de diamante pode ser monocristalino ou policristalino. É amplamente utilizado para substratos de diamante de grandes dimensões na indústria de semicondutores.
  • Ferramentas de corte e perfuração: A dureza excecional dos diamantes MPCVD torna-os ideais para a indústria de ferramentas de corte e perfuração de diamantes.
  • Ótica e materiais avançados: Para aplicações que utilizam as propriedades ópticas e térmicas únicas do diamante.

Comparado com o método HPHT para diamantes cultivados em laboratório, o método CVD por micro-ondas, tal como utilizado pela KINTEK, é vantajoso para o crescimento de diamantes de grandes dimensões a um custo mais baixo. Isso o torna uma solução ideal para aplicações em diamantes semicondutores, crescimento de diamantes ópticos e para atender às necessidades do grande mercado de diamantes para jóias.

Parceria com a KINTEK para soluções personalizadas de alta temperatura

Para além dos nossos sistemas MPCVD especializados, a KINTEK oferece uma linha de produtos diversificada, incluindo fornos de mufla, fornos tubulares, fornos rotativos, outros fornos de vácuo e atmosfera e vários sistemas CVD/PECVD. A nossa principal força reside na nossa excecional I&D, fabrico interno dedicado e profundas capacidades de personalização, o que nos permite adaptar soluções precisamente aos seus requisitos experimentais ou de produção específicos.

Tem requisitos únicos ou um projeto desafiante? Somos especializados no desenvolvimento de soluções personalizadas. Contacte a KINTEK hoje mesmo para discutir as suas necessidades e explorar como a nossa tecnologia avançada de fornos pode beneficiar o seu trabalho!

FAQ

Qual é O Princípio De Funcionamento De Uma Máquina CVD?

O princípio da Deposição Química em Vapor (CVD) envolve a introdução de vapor de reagentes gasosos ou líquidos contendo elementos de película e outros gases necessários numa câmara de reação. Através da aplicação de energia sob a forma de aumento de temperatura, ação de plasma, radiação luminosa ou outros meios, ocorrem reacções químicas na superfície do substrato, gerando novas substâncias sólidas que se depositam sob a forma de películas finas. O princípio de funcionamento de um forno CVD envolve a introdução de gases precursores na câmara do forno, onde altas temperaturas fazem com que esses gases reajam ou se decomponham perto da superfície do substrato. O material desejado deposita-se no substrato como uma película sólida, enquanto os subprodutos e os gases não utilizados são evacuados através de um sistema de exaustão ou vácuo.

Qual é O Princípio De Funcionamento De Uma Máquina MPCVD?

Uma máquina MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) funciona utilizando um gerador de micro-ondas para produzir plasma através da ionização de uma mistura de gases. Este plasma é alojado numa câmara de reação sob baixa pressão, onde o substrato é mantido no lugar por um suporte de substrato. Os componentes principais incluem um gerador de micro-ondas, uma câmara de plasma, um sistema de fornecimento de gás, um suporte de substrato e um sistema de vácuo.

Para Que é Utilizada Uma Máquina PECVD?

Uma máquina PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) é amplamente utilizada no processamento de silício e de materiais semelhantes, na nanotecnologia, na produção de células solares e na eletrónica. É crucial para depositar películas finas em células solares e criar componentes de alta qualidade para dispositivos electrónicos. As aplicações incluem o fabrico de dispositivos electrónicos (isolamento de camadas condutoras, condensadores, passivação de superfícies), dispositivos semicondutores, eletrónica imprimível e proteção de dispositivos médicos.

Quais São As Vantagens De Utilizar Uma Máquina CVD?

A CVD proporciona uma elevada pureza, uniformidade e conformidade, tornando-a adequada para o revestimento de geometrias complexas. É utilizada em indústrias como a dos semicondutores, aeroespacial e biomédica. Ao contrário do PVD, o CVD não se limita à aplicação na linha de visão e o revestimento liga-se à superfície durante a reação, criando uma adesão superior.

Quais São As Vantagens De Utilizar Uma Máquina MPCVD?

As máquinas MPCVD oferecem várias vantagens: eliminam a contaminação por fios quentes (descarga não polar), permitem a utilização de vários gases, proporcionam um controlo estável da temperatura de reação, permitem uma descarga de plasma estável em grandes áreas e oferecem um controlo preciso da espessura da película, da pureza e da qualidade do cristal. Além disso, produzem películas de diamante de grande área, asseguram condições estáveis, mantêm uma qualidade de amostra consistente e são económicos.

Quais São Os Principais Tipos De Máquinas PECVD?

As máquinas PECVD existem em vários tipos, incluindo máquinas de fornos tubulares PECVD de deposição química melhorada por plasma rotativo inclinado, fornos tubulares CVD de câmara dividida com estações de vácuo, sistemas PECVD RF e sistemas de máquinas MPCVD de ressoador cilíndrico. Cada tipo foi concebido para aplicações específicas, como a investigação de semicondutores, a deposição de película fina e o crescimento de diamantes em laboratório.

Quais São As Aplicações De Uma Máquina CVD?

A CVD é utilizada em várias aplicações, incluindo a produção de dispositivos semicondutores (por exemplo, camadas isolantes de nitreto de silício), revestimentos ópticos, revestimentos de proteção e materiais avançados como o grafeno e os nanotubos de carbono, que possuem propriedades eléctricas, térmicas e mecânicas únicas. É também utilizada para depositar películas conformes e modificar superfícies de substratos de formas que as técnicas tradicionais não conseguem. As aplicações incluem a deposição de camadas atómicas, circuitos integrados, dispositivos fotovoltaicos, revestimentos resistentes ao desgaste, revestimentos de polímeros com propriedades especiais, estruturas metal-orgânicas para deteção de gases e revestimentos de membranas para tratamento de águas.

Quais São As Principais Aplicações Das Máquinas MPCVD?

As máquinas MPCVD são usadas principalmente para a síntese de diamantes de alta pureza cultivados em laboratório, incluindo filmes de diamante e outros materiais avançados. As suas aplicações estendem-se à investigação de semicondutores, à ótica e aos MEMS (Sistemas Micro-Electro-Mecânicos) devido à sua capacidade de produzir películas homogéneas de alta qualidade com um controlo preciso.

Como é Que Uma Máquina PECVD Funciona?

Uma máquina PECVD funciona através da utilização de plasma para melhorar o processo de deposição química de vapor. As taxas de deposição e as propriedades da película (por exemplo, espessura, dureza, índice de refração) são controladas através do ajuste de parâmetros como as taxas de fluxo de gás, as temperaturas de funcionamento e as condições do plasma. O plasma permite o ajuste fino das propriedades do material, como a densidade, a pureza e a rugosidade, permitindo a criação de películas finas de alta qualidade a temperaturas de substrato mais baixas.

Quais São As Principais Caraterísticas De Uma Máquina CVD?

As principais caraterísticas de um forno CVD incluem a capacidade de alta temperatura (normalmente entre 200°C e mais de 1500°C), controlo preciso do fluxo de gás, controlo da atmosfera (vácuo, pressão atmosférica ou ambientes de baixa pressão), aquecimento uniforme para uma deposição uniforme de película fina e um sistema de exaustão eficiente para remover subprodutos e gases que não reagiram. As principais caraterísticas de um processo de revestimento CVD incluem a aplicação a temperaturas elevadas para facilitar a reação, normalmente sob vácuo. Os contaminantes devem ser removidos da superfície da peça antes do revestimento.

Quais São Os Principais Componentes De Uma Máquina MPCVD?

Os principais componentes de uma máquina MPCVD incluem um gerador de micro-ondas (para produzir plasma), uma câmara de reação (para alojar o substrato e a mistura de gás a baixa pressão), um suporte de substrato (para segurar o substrato durante a deposição), um sistema de fornecimento de gás (para introduzir e controlar a mistura de gás) e um sistema de vácuo (para manter o ambiente de baixa pressão necessário).

Quais São As Principais Caraterísticas De Uma Máquina PECVD?

As principais caraterísticas de uma máquina PECVD incluem uma consola de base universal que alberga subsistemas electrónicos, uma câmara de processo PECVD com uma porta de bombagem, eléctrodos superiores e inferiores aquecidos, software de rampa de parâmetros e uma cápsula de gás com linhas de gás controladas por fluxo de massa. O sistema inclui normalmente uma câmara, bomba(s) de vácuo e um sistema de distribuição de gás, com configurações que variam consoante a fonte de energia, o tipo de gás e os sensores de pressão.

Que Tipos De Máquinas CVD Estão Disponíveis?

Existem vários tipos de máquinas CVD disponíveis, incluindo sistemas de máquinas MPCVD com ressonador cilíndrico para crescimento de diamantes em laboratório, fornos tubulares CVD versáteis feitos à medida para deposição de vapor químico, fornos tubulares PECVD de deslizamento com gaseificadores de líquidos, máquinas de fornos de prensagem a quente a vácuo, fornos tubulares de deposição química melhorada por plasma rotativo inclinado (PECVD), fornos tubulares CVD de câmara dividida com estações de vácuo e sistemas RF PECVD para deposição de vapor químico melhorada por plasma de radiofrequência. Cada tipo foi concebido para aplicações específicas e oferece caraterísticas únicas.

Como é Que Uma Máquina MPCVD Aumenta A Eficiência Energética?

Uma máquina MPCVD aumenta a eficiência energética através do seu processo sem eléctrodos, que reduz a contaminação e a perda de energia. A geração de plasma de micro-ondas é altamente eficiente e o design modular e escalável do sistema permite uma utilização optimizada da energia em várias aplicações industriais.

Quais São As Vantagens De Utilizar Uma Máquina PECVD?

As máquinas PECVD oferecem várias vantagens, incluindo taxas de deposição rápidas (por exemplo, 160 vezes mais rápidas para o nitreto de silício em comparação com a CVD), a capacidade de criar películas com diferentes propriedades ajustando os parâmetros do plasma e a composição do gás, películas de elevada qualidade e espessura uniforme, boa adesão, risco reduzido de fissuração e adequação a superfícies complexas. Também proporcionam uma elevada resistência a solventes e à corrosão com estabilidade química e térmica.

Porque é Que A MPCVD é Preferida Para O Crescimento De Diamantes?

O MPCVD é preferido para o crescimento do diamante porque fornece uma alta densidade de partículas carregadas e espécies reactivas, permite a deposição de películas de diamante de grande área a pressões mais baixas e garante uma melhor homogeneidade nas películas crescidas. Estas caraterísticas resultam em diamantes de elevada pureza e qualidade, com um controlo preciso das suas propriedades.

Que Materiais Podem Ser Depositados Utilizando Uma Máquina PECVD?

As máquinas PECVD podem depositar uma variedade de materiais, incluindo nitreto de silício (SiN) e carboneto de silício (SiC), que são particularmente úteis em aplicações de semicondutores e MEMS de alta temperatura. Estas máquinas são versáteis e podem ser utilizadas para criar películas finas com propriedades adaptadas a necessidades industriais e de investigação específicas.

Porque é Que O PECVD é Preferido Em Relação A Outros Métodos De Deposição?

O PECVD é preferido em relação a outros métodos de deposição porque permite a deposição a temperaturas de substrato mais baixas, proporciona uma boa cobertura de passos e permite uma deposição de película altamente uniforme. Também oferece um excelente controlo das propriedades do material, como o índice de refração, a tensão e a dureza, tornando-o ideal para aplicações que exigem caraterísticas precisas de película fina.
Veja mais perguntas frequentes sobre este produto

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This machine is a game-changer! The diamond growth speed is phenomenal, and the quality is unmatched.

Elara Voss

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Incredible value for money. The precision and durability of this system are top-notch.

Rohan Mehta

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Fast delivery and easy setup. The technological advancement in this machine is mind-blowing.

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The consistency in diamond quality is impressive. Worth every penny!

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Highly efficient and reliable. Perfect for lab diamond growth with minimal maintenance.

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The cylindrical resonator design is brilliant. Delivers flawless diamonds every time.

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Exceptional performance! The machine’s durability and advanced tech make it a must-have.

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Outstanding build quality. The diamonds produced are of impeccable clarity and size.

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Mateo Silva

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Incredibly advanced and user-friendly. Delivers perfect diamonds with ease.

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Descubra o forno de atmosfera de hidrogénio da KINTEK para sinterização e recozimento precisos em ambientes controlados. Até 1600°C, caraterísticas de segurança, personalizável.

Forno para tratamento térmico e sinterização sob vácuo com pressão de ar de 9MPa

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Obtenha uma densificação cerâmica superior com o avançado forno de sinterização por pressão de ar da KINTEK. Alta pressão até 9MPa, controlo preciso de 2200℃.