Produtos Fornos de Alta Temperatura MPCVD Sistema de Máquina MPCVD Reator Ressonador de campânula para laboratório e crescimento de diamante
Sistema de Máquina MPCVD Reator Ressonador de campânula para laboratório e crescimento de diamante

MPCVD

Sistema de Máquina MPCVD Reator Ressonador de campânula para laboratório e crescimento de diamante

Número do item : KTMP315

O preço varia com base em especificações e personalizações


Potência de micro-ondas
1~10 kW
Área de crescimento do substrato
3 polegadas
Carga máxima do lote
45 peças de diamante
ISO & CE icon

Envio:

Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite Garantia de envio dentro do prazo.

Ver Especificações

Por Que Nos Escolher

Processo de pedido fácil, produtos de qualidade e suporte dedicado para o sucesso do seu negócio.

Processo Fácil Qualidade Garantida Suporte Dedicado

Eleve a sua Síntese de Diamante com a KINTEK

Aproveitando a excecional P&D e a fabricação própria, a KINTEK oferece sistemas de ponta de Deposição de Vapor Químico por Plasma de Micro-ondas (MPCVD). As nossas máquinas são meticulosamente concebidas para garantir a fiabilidade, a eficiência e a produção consistente de diamantes de elevada pureza e qualidade, satisfazendo diversas necessidades laboratoriais e industriais.

Por que os sistemas MPCVD da KINTEK são a sua primeira escolha

Na KINTEK, estamos comprometidos com o avanço da tecnologia de síntese de diamantes. Nossos sistemas MPCVD oferecem uma combinação atraente de desempenho, inovação e suporte:

  • Fiabilidade e desempenho inigualáveis: Com uma estabilidade operacional documentada superior a 40.000 horas, o nosso equipamento MPCVD define o padrão da indústria em termos de fiabilidade, repetibilidade e rentabilidade. Pode confiar nos sistemas KINTEK para obter resultados consistentes, execução após execução.
  • Vantagem tecnológica avançada: Reinvestimos continuamente em I&D, implementando múltiplas actualizações e melhorias. Este compromisso traduz-se em sistemas MPCVD com uma eficiência significativamente melhorada e custos operacionais reduzidos para os nossos clientes.
  • Principais vantagens do sistema:
    • Área de crescimento espaçosa: Apresenta uma área de crescimento de substrato de 3 polegadas, acomodando uma carga máxima de lote de até 45 peças de diamante.
    • Eficiência energética: Equipado com potência de micro-ondas de saída ajustável de 1-10kW, minimizando o consumo de eletricidade sem comprometer o desempenho.
    • Transferência de conhecimento especializado: Beneficie do apoio da nossa equipa de investigação altamente experiente, incluindo o acesso a receitas de ponta para o cultivo de diamantes.
    • Apoio abrangente para todos os utilizadores: Oferecemos um programa de apoio técnico exclusivo, que permite que mesmo as equipas sem experiência prévia no cultivo de diamantes alcancem o sucesso.

Vitrine Visual: A Vantagem KINTEK MPCVD em Ação

Veja os resultados notáveis e a engenharia de precisão da nossa tecnologia MPCVD:

Novo modelo de máquina de diamante MPCVD
Novo modelo de máquina de diamante KINTEK MPCVD
Diamante bruto cultivado pela máquina KINTEK MPCVD
Diamante bruto cultivado pela máquina KINTEK MPCVD
Na máquina KinTek MPCVD, os diamantes estão crescendo
Na máquina KinTek MPCVD, os diamantes estão crescendo
Diamantes cultivados em MPCVD após o polimento
Diamantes cultivados por MPCVD após o polimento
Policristalino por KinTek MPCVD
Diamante policristalino cultivado por KinTek MPCVD

Entendendo a tecnologia MPCVD

MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) é uma técnica avançada para sintetizar filmes de diamante de alta qualidade e cristais únicos. Envolve a criação de um plasma gerado por micro-ondas a partir de gases contendo carbono (como metano, CH4) misturados com outros gases (como H2, Ar, O2, N2) dentro de uma câmara de vácuo. Este plasma facilita a deposição precisa de átomos de carbono num substrato, permitindo o crescimento controlado de material diamantado.

Vantagens gerais do método MPCVD:

Em comparação com outras técnicas de síntese, como a alta pressão e alta temperatura (HPHT), o MPCVD oferece várias vantagens importantes:

  • Diamantes de maior pureza: O plasma sem contacto e o ambiente controlado minimizam a contaminação.
  • Menor consumo de energia: Geralmente mais eficiente em termos de energia do que o HPHT.
  • Potencial para diamantes maiores: Adequado para o crescimento de diamantes monocristalinos maiores e filmes extensos.
  • Controlo versátil do gás: Permite o uso de vários gases, oferecendo flexibilidade no ajuste das propriedades do diamante.
  • Processamento estável: Oferece um ajuste suave da potência de micro-ondas e um controlo estável da temperatura, cruciais para uma qualidade consistente e para evitar problemas como a perda de cristais de semente.

Estas caraterísticas fazem do MPCVD um método promissor e amplamente adotado para aplicações industriais e investigação avançada, particularmente quando a alta qualidade e o crescimento controlado são fundamentais.

Diversas aplicações, desbloqueadas pelo KINTEK MPCVD

Os sistemas MPCVD da KINTEK são projetados para atender às demandas de várias aplicações de ponta, aproveitando as propriedades exclusivas do diamante, como dureza excecional, alta rigidez, condutividade térmica superior, baixa expansão térmica, dureza à radiação e inércia química:

  • Pedras preciosas cultivadas em laboratório: Produção de diamantes grandes e de alta qualidade para o mercado da joalharia a um custo competitivo, oferecendo uma alternativa ética e sustentável.
  • Indústria de semicondutores: Possibilitando o crescimento de substratos de diamante de grande área e alta pureza, cruciais para a próxima geração de eletrónica de potência, computação quântica e sensores avançados.
  • Componentes ópticos: Criação de películas e janelas de diamante com transmissão ótica superior, estabilidade térmica e durabilidade para lasers e outros sistemas ópticos.
  • Ferramentas industriais: Fabrico de ferramentas de corte, perfuração e retificação revestidas a diamante altamente duráveis para a maquinagem de materiais duros e abrasivos.
  • Investigação e desenvolvimento: Fornecimento de uma plataforma versátil e fiável para investigadores académicos e industriais que exploram novos materiais de diamante, técnicas de dopagem e aplicações.

A nossa tecnologia MPCVD oferece uma vantagem significativa sobre os métodos HPHT tradicionais, especialmente para aplicações que requerem diamantes de grande dimensão e de elevada pureza. Isto posiciona os sistemas KINTEK como uma solução ideal para os mercados de semicondutores, ótica e joalharia moderna, impulsionando a inovação e permitindo novas possibilidades.

Em profundidade: Projeto e operação do sistema KINTEK MPCVD

Como funcionam os nossos sistemas MPCVD (Processo de trabalho)

A máquina KINTEK MPCVD controla meticulosamente o fluxo de cada via de gás (gases reagentes como CH4, H2, Ar, O2, N2, etc.) e a pressão da cavidade. Os gases são introduzidos na cavidade sob pressões específicas, definidas pela receita. Após estabilizar o fluxo de ar, um gerador de micro-ondas de estado sólido de 6KW (ou outra potência especificada) produz micro-ondas, que são então guiadas para a cavidade através de um guia de ondas.

Dentro do campo de micro-ondas, o gás de reação transforma-se num estado de plasma, formando uma bola de plasma estável que paira precisamente sobre o substrato de diamante. O calor intenso do plasma eleva o substrato à temperatura óptima de crescimento. O excesso de calor gerado dentro da cavidade é eficientemente dissipado por uma unidade integrada de arrefecimento a água.

Para garantir condições ideais de crescimento durante o processo de crescimento de diamante monocristalino MPCVD, os operadores podem ajustar com precisão factores como a potência de micro-ondas, a composição da fonte de gás e a pressão da cavidade. Uma das principais vantagens é que a esfera de plasma não entra em contacto com a parede da cavidade, assegurando que o processo de crescimento do diamante está livre de impurezas, melhorando assim significativamente a qualidade e a pureza do diamante.

Componentes e detalhes do sistema

Componente do sistema de micro-ondas do KINTEK MPCVD

Sistema de micro-ondas

Câmara de reação do KINTEK MPCVD

Câmara de reação

Sistema de fluxo de gás para KINTEK MPCVD

Sistema de fluxo de gás

Sistema de vácuo e sensor no KINTEK MPCVD

Sistema de vácuo e sensor

Simulação de plasma KinTek MPCVD
Simulação de Plasma KinTek MPCVD para Crescimento Otimizado

Especificações técnicas abrangentes

Sistema de micro-ondas
  • Frequência de micro-ondas 2450±15MHZ,
  • Potência de saída 1~10 KW continuamente ajustável
  • Estabilidade da potência de saída de micro-ondas: <±1%
  • Fuga de micro-ondas ≤2MW/cm2
  • Interface de guia de onda de saída: WR340, 430 com flange padrão FD-340, 430
  • Fluxo de água de arrefecimento: 6-12L/min
  • Coeficiente de onda estacionária do sistema: VSWR ≤ 1,5
  • Ajustador manual de micro-ondas de 3 pinos, cavidade de excitação, carga de alta potência
  • Fonte de alimentação de entrada: 380VAC/50Hz ± 10%, trifásico
Câmara de reação
  • Taxa de fuga de vácuo<5 × 10-9 Pa .m3/s
  • A pressão limite é inferior a 0,7 Pa (configuração normalizada com um vacuómetro Pirani)
  • O aumento da pressão da câmara não deve exceder 50Pa após 12 horas de manutenção da pressão
  • Modo de funcionamento da câmara de reação: Modo TM021 ou TM023
  • Tipo de cavidade: Cavidade ressonante em borboleta, com potência máxima de suporte de 10KW, feita de aço inoxidável 304, com camada intermédia arrefecida a água e método de vedação com placa de quartzo de elevada pureza.
  • Modo de entrada de ar: Entrada de ar uniforme anular superior
  • Selagem a vácuo: A ligação inferior da câmara principal e a porta de injeção são seladas com anéis de borracha, a bomba de vácuo e os foles são selados com KF, a placa de quartzo é selada com um anel C metálico e o resto é selado com CF
  • Janela de observação e de medição da temperatura: 4 portas de observação
  • Porta de carregamento de amostras na frente da câmara
  • Descarga estável dentro da gama de pressão de 0,7KPa~30KPa (a pressão de alimentação deve ser igualada)
Suporte de amostras
  • Diâmetro da mesa de amostras ≥70mm, área de utilização efectiva ≥64 mm
  • Estrutura sanduíche refrigerada a água da plataforma da placa de base
  • O suporte da amostra pode ser levantado e abaixado uniformemente eletricamente na cavidade
Sistema de fluxo de gás
  • Disco de ar para soldadura de todos os metais
  • Devem ser utilizadas juntas de soldadura ou VCR para todos os circuitos internos de gás do equipamento.
  • Medidor de caudal MFC de 5 canais, H2/CH4/O2/N/Ar. H2: 1000 sccm ;CH4:100 sccm; O2: 2 sccm; N2: 2 sccm; Ar: 10 sccm
  • Pressão de trabalho 0,05-0,3MPa, precisão ±2%
  • Controlo independente da válvula pneumática para cada canal do medidor de caudal
Sistema de arrefecimento
  • 3 linhas de arrefecimento a água, monitorização em tempo real da temperatura e do caudal.
  • O caudal de água de arrefecimento do sistema é ≤ 50L/min
  • A pressão da água de resfriamento é <4KG e a temperatura da água de entrada é de 20-25 ℃.
Sensor de temperatura
  • O termômetro infravermelho externo tem uma faixa de temperatura de 300-1400 ℃
  • Precisão do controle de temperatura <2 ℃ ou 2%
Sistema de controlo
  • Siemens smart 200 PLC e controle de tela de toque são adotados.
  • O sistema possui uma variedade de programas, que podem realizar o equilíbrio automático da temperatura de crescimento, controle preciso da pressão do ar de crescimento, aumento automático de temperatura, queda automática de temperatura e outras funções.
  • A operação estável do equipamento e a proteção abrangente do equipamento podem ser alcançadas através da monitorização do fluxo de água, temperatura, pressão e outros parâmetros, e a fiabilidade e segurança da operação podem ser garantidas através do encravamento funcional.
Função opcional
  • Sistema de monitorização central
  • Potência de base do substrato

Parceria com a KINTEK para as suas necessidades de materiais avançados

A KINTEK é um líder reconhecido no fornecimento de soluções avançadas de fornos de alta temperatura, apoiada por capacidades excepcionais de I&D e fabrico interno dedicado. A nossa extensa linha de produtos, que inclui fornos de mufla, fornos tubulares, fornos rotativos, fornos de vácuo e de atmosfera e sistemas especializados de CVD/PECVD/MPCVD, é um testemunho da nossa experiência abrangente em processamento térmico e ciência dos materiais. Orgulhamo-nos da nossa forte e profunda capacidade de personalização, permitindo-nos satisfazer com precisão os seus requisitos exclusivos de produção experimental ou industrial.

Pronto para revolucionar a sua produção ou pesquisa de diamantes?

Descubra como os avançados sistemas MPCVD da KINTEK podem elevar as suas capacidades. Quer esteja concentrado na produção de pedras preciosas, materiais semicondutores, componentes ópticos ou investigação pioneira, a nossa equipa de especialistas está aqui para o ajudar a encontrar a solução perfeita. Oferecemos consultoria personalizada, especificações detalhadas e sistemas feitos sob medida para as suas necessidades.

Contacte-nos hoje para discutir o seu projeto, solicitar um orçamento ou saber mais sobre como a KINTEK pode potenciar o seu sucesso na síntese de diamantes!

Confiado pelos Líderes da Indústria

Nossos Clientes Parceiros

FAQ

Qual é O Princípio De Funcionamento De Uma Máquina MPCVD?

Uma máquina MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) funciona utilizando um gerador de micro-ondas para produzir plasma através da ionização de uma mistura de gases. Este plasma é alojado numa câmara de reação sob baixa pressão, onde o substrato é mantido no lugar por um suporte de substrato. Os componentes principais incluem um gerador de micro-ondas, uma câmara de plasma, um sistema de fornecimento de gás, um suporte de substrato e um sistema de vácuo.

Quais São As Vantagens De Utilizar Uma Máquina MPCVD?

As máquinas MPCVD oferecem várias vantagens: eliminam a contaminação por fios quentes (descarga não polar), permitem a utilização de vários gases, proporcionam um controlo estável da temperatura de reação, permitem uma descarga de plasma estável em grandes áreas e oferecem um controlo preciso da espessura da película, da pureza e da qualidade do cristal. Além disso, produzem películas de diamante de grande área, asseguram condições estáveis, mantêm uma qualidade de amostra consistente e são económicos.

Quais São As Principais Aplicações Das Máquinas MPCVD?

As máquinas MPCVD são usadas principalmente para a síntese de diamantes de alta pureza cultivados em laboratório, incluindo filmes de diamante e outros materiais avançados. As suas aplicações estendem-se à investigação de semicondutores, à ótica e aos MEMS (Sistemas Micro-Electro-Mecânicos) devido à sua capacidade de produzir películas homogéneas de alta qualidade com um controlo preciso.

Quais São Os Principais Componentes De Uma Máquina MPCVD?

Os principais componentes de uma máquina MPCVD incluem um gerador de micro-ondas (para produzir plasma), uma câmara de reação (para alojar o substrato e a mistura de gás a baixa pressão), um suporte de substrato (para segurar o substrato durante a deposição), um sistema de fornecimento de gás (para introduzir e controlar a mistura de gás) e um sistema de vácuo (para manter o ambiente de baixa pressão necessário).

Como é Que Uma Máquina MPCVD Aumenta A Eficiência Energética?

Uma máquina MPCVD aumenta a eficiência energética através do seu processo sem eléctrodos, que reduz a contaminação e a perda de energia. A geração de plasma de micro-ondas é altamente eficiente e o design modular e escalável do sistema permite uma utilização optimizada da energia em várias aplicações industriais.

Porque é Que A MPCVD é Preferida Para O Crescimento De Diamantes?

O MPCVD é preferido para o crescimento do diamante porque fornece uma alta densidade de partículas carregadas e espécies reactivas, permite a deposição de películas de diamante de grande área a pressões mais baixas e garante uma melhor homogeneidade nas películas crescidas. Estas caraterísticas resultam em diamantes de elevada pureza e qualidade, com um controlo preciso das suas propriedades.
Veja mais perguntas frequentes sobre este produto

Folha de Dados do Produto

Sistema de Máquina MPCVD Reator Ressonador de campânula para laboratório e crescimento de diamante

Catálogo de Categorias

Mpcvd


SOLICITAR UM ORÇAMENTO

Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!

Produtos relacionados

Sistema de Máquina MPCVD com Ressonador Cilíndrico para Crescimento de Diamante em Laboratório

Sistema de Máquina MPCVD com Ressonador Cilíndrico para Crescimento de Diamante em Laboratório

Sistemas KINTEK MPCVD: Produza filmes de diamante de alta qualidade com precisão. Fiáveis, eficientes em termos energéticos e fáceis de utilizar por principiantes. Suporte especializado disponível.

Ver detalhes
915MHz MPCVD Máquina de Diamante Sistema de Deposição de Vapor Químico por Plasma de Micro-ondas Reator

915MHz MPCVD Máquina de Diamante Sistema de Deposição de Vapor Químico por Plasma de Micro-ondas Reator

Máquina de diamante KINTEK MPCVD: Síntese de diamante de alta qualidade com tecnologia MPCVD avançada. Crescimento mais rápido, pureza superior, opções personalizáveis. Aumente a produção agora!

Ver detalhes
Forno de Tubo PECVD Deslizante com Máquina PECVD de Gaseificador de Líquidos

Forno de Tubo PECVD Deslizante com Máquina PECVD de Gaseificador de Líquidos

Forno de Tubo PECVD Deslizante KINTEK: Deposição de filmes finos de precisão com plasma RF, ciclagem térmica rápida e controle de gás personalizável. Ideal para semicondutores e células solares.

Ver detalhes
Forno tubular de deposição química melhorada por plasma rotativo inclinado - Máquina PECVD

Forno tubular de deposição química melhorada por plasma rotativo inclinado - Máquina PECVD

A máquina de revestimento PECVD da KINTEK produz filmes finos de precisão em baixas temperaturas para LEDs, células solares e MEMS. Soluções personalizáveis de alto desempenho.

Ver detalhes
Forno de Tubo PECVD de Deposição Química de Vapor Assistida por Plasma Rotativo Inclinado

Forno de Tubo PECVD de Deposição Química de Vapor Assistida por Plasma Rotativo Inclinado

Forno de tubo PECVD avançado para deposição precisa de filmes finos. Aquecimento uniforme, fonte de plasma RF, controle de gás personalizável. Ideal para pesquisa de semicondutores.

Ver detalhes
Forno tubular CVD versátil feito à medida Máquina de equipamento de deposição química de vapor CVD

Forno tubular CVD versátil feito à medida Máquina de equipamento de deposição química de vapor CVD

O forno tubular CVD da KINTEK oferece um controlo preciso da temperatura até 1600°C, ideal para a deposição de películas finas. Personalizável para necessidades industriais e de investigação.

Ver detalhes
Máquina de forno tubular CVD com várias zonas de aquecimento para equipamento de deposição química de vapor

Máquina de forno tubular CVD com várias zonas de aquecimento para equipamento de deposição química de vapor

Os fornos tubulares CVD multi-zona da KINTEK oferecem um controlo preciso da temperatura para deposição avançada de película fina. Ideal para investigação e produção, personalizável de acordo com as necessidades do seu laboratório.

Ver detalhes
Sistema RF PECVD Deposição de vapor químico enriquecida com plasma de radiofrequência

Sistema RF PECVD Deposição de vapor químico enriquecida com plasma de radiofrequência

Sistema PECVD RF KINTEK: Deposição de película fina de precisão para semicondutores, ótica e MEMS. Processo automatizado e de baixa temperatura com qualidade de película superior. Soluções personalizadas disponíveis.

Ver detalhes
Forno tubular CVD de câmara dividida com máquina CVD de estação de vácuo

Forno tubular CVD de câmara dividida com máquina CVD de estação de vácuo

Forno tubular CVD de câmara dividida com estação de vácuo - Forno de laboratório de alta precisão a 1200°C para investigação de materiais avançados. Soluções personalizáveis disponíveis.

Ver detalhes
Forno tubular de quartzo para laboratório Forno tubular de aquecimento RTP

Forno tubular de quartzo para laboratório Forno tubular de aquecimento RTP

O forno tubular de aquecimento rápido RTP da KINTEK proporciona um controlo preciso da temperatura, um aquecimento rápido até 100°C/seg e opções de atmosfera versáteis para aplicações laboratoriais avançadas.

Ver detalhes

Artigos relacionados

Por Que Seus Resultados de Síntese de Alta Temperatura São Não Confiáveis — E Como Corrigi-los

Por Que Seus Resultados de Síntese de Alta Temperatura São Não Confiáveis — E Como Corrigi-los

Lutando com resultados inconsistentes na síntese de materiais, CVD ou recozimento? Descubra que a causa oculta do fracasso é o ambiente do seu forno, não o seu processo.

Descubra mais
Resolvendo o dilema da união: Por que as ligas de alta resistência precisam de mais do que apenas pressão

Resolvendo o dilema da união: Por que as ligas de alta resistência precisam de mais do que apenas pressão

Descubra como as camadas intermediárias de folha metálica multicamadas resolvem problemas de deformação na união por difusão de ligas ODS, garantindo integridade em nível atômico com pressões mais baixas.

Descubra mais
Como os Métodos de Síntese de Diamante CVD se Comparam para Aplicações Industriais

Como os Métodos de Síntese de Diamante CVD se Comparam para Aplicações Industriais

Compare os métodos de síntese de diamante CVD (HFCVD, DC Plasma Arc Jet, MPCVD) quanto a custo, qualidade e aplicações industriais como ferramentas, óptica e tecnologia quântica.

Descubra mais
Por que o seu grafeno derivado de biomassa carece de uniformidade — e o segredo térmico para corrigi-lo

Por que o seu grafeno derivado de biomassa carece de uniformidade — e o segredo térmico para corrigi-lo

Está com dificuldades com grafeno decorado com prata inconsistente? Aprenda como reatores APCVD e fornos a vácuo de SiC garantem uma distribuição uniforme de nanopartículas e uma síntese de alta qualidade.

Descubra mais
O Coração Frio do Forno: Dominando a Dessublimação na Recuperação de Magnésio

O Coração Frio do Forno: Dominando a Dessublimação na Recuperação de Magnésio

Uma visão sobre os compromissos físicos e de engenharia dos cristalizadores de condensação, a chave para a pureza e o rendimento na recuperação de vapor de magnésio.

Descubra mais
Por que a sua síntese de pó composto falha em altas temperaturas — e como estabilizar a "onda de combustão"

Por que a sua síntese de pó composto falha em altas temperaturas — e como estabilizar a "onda de combustão"

Descubra como os reatores SHS de alta pressão resolvem a volatilização e a inconsistência na síntese de pó de ZrSi2–MoSi2–ZrB2 através da redução magnesiotérmica controlada.

Descubra mais
Por que as suas ligas superelásticas falham no desempenho — e como a precisão em estado sólido resolve isso

Por que as suas ligas superelásticas falham no desempenho — e como a precisão em estado sólido resolve isso

Descubra por que a fundição tradicional falha com ligas superelásticas de Ti-Ni-X e como a Sinterização por Plasma de Centelha (SPS) proporciona um controle preciso da composição e uma microestrutura fina.

Descubra mais

Tags quentes