CVD & PECVD Furnace
Forno tubular CVD de câmara dividida com máquina CVD de estação de vácuo
Número do item : KT-CTF12
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Temperatura máxima
- 1200℃
- Diâmetro do tubo do forno
- 60mm
- Taxa de aquecimento
- 0-20℃/min
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Detalhes e peças
Introdução
Aproveitando a excecional I&D e o fabrico próprio, a KINTEK fornece soluções avançadas de fornos de alta temperatura adaptadas a diversas necessidades laboratoriais. O Forno tubular CVD de câmara dividida com estação de vácuo é um exemplo disso, oferecendo um sistema versátil e de elevado desempenho meticulosamente concebido para aplicações exigentes de Deposição Química em Vapor (CVD).
Este forno foi concebido para precisão e facilidade de utilização. As principais caraterísticas que beneficiam a sua investigação incluem:
- Câmara de forno dividida: Permite o acesso direto às amostras de reação e facilita o arrefecimento rápido, aumentando significativamente a eficiência experimental e o rendimento.
- Capacidade de alta temperatura: Utiliza um tubo de quartzo de alta pureza (diâmetro padrão de 60 mm, opções personalizáveis disponíveis) adequado para processos que exigem temperaturas de até 1200°C.
- Controlo preciso do gás: Equipado com um medidor de caudal mássico MFC de 4 canais, proporcionando um fornecimento preciso e estável de gases de origem como CH4, H2, O2 e N2 para resultados de processo consistentes.
- Estação de vácuo integrada: Inclui uma robusta bomba de vácuo de palhetas rotativas 4L/S, capaz de atingir uma pressão de vácuo máxima de 10 Pa, assegurando um ambiente ótimo para vários processos de vácuo.
Na KINTEK, compreendemos que os requisitos experimentais únicos exigem soluções flexíveis. A nossa forte capacidade de personalização profunda significa que, embora este sistema esteja repleto de caraterísticas avançadas ideais para a ciência dos materiais, processamento de semicondutores e I&D pioneira, podemos adaptá-lo ainda mais às suas necessidades específicas. A nossa experiência abrange uma linha de produtos abrangente, incluindo mufla, tubo, fornos rotativos, fornos de vácuo e de atmosfera e sistemas avançados de CVD/PECVD/MPCVD, garantindo que fornecemos a solução perfeita para o seu trabalho.
Pronto para elevar as suas capacidades de investigação ou discutir uma configuração personalizada para os seus processos CVD? Contacte os nossos especialistas hoje mesmo para explorar a forma como o forno tubular CVD de câmara dividida pode ser adaptado aos seus requisitos experimentais precisos e para solicitar um orçamento.
Aplicações
O forno tubular CVD de câmara dividida com máquina CVD de estação de vácuo é um equipamento versátil e avançado concebido para uma variedade de aplicações nos domínios da ciência dos materiais, fabrico de semicondutores e investigação e desenvolvimento. Esta máquina é particularmente útil para processos que requerem um controlo preciso da temperatura, do fluxo de gás e dos níveis de vácuo, tornando-a uma ferramenta essencial para a síntese e processamento de materiais de alta qualidade.
- Síntese de nanomateriais: O forno é ideal para o crescimento de nanofios, nanofilmes e outros materiais nanoestruturados, que são cruciais no desenvolvimento de dispositivos electrónicos e optoelectrónicos avançados.
- Revestimento a vácuo: É amplamente utilizado para a deposição de películas finas em vários substratos, incluindo películas de metal, películas de cerâmica e películas compostas, que são essenciais para melhorar as propriedades dos materiais em aplicações como a ótica e a eletrónica.
- Processamento de material de bateria: O forno é adequado para a secagem e sinterização de materiais de bateria, que é um passo crítico na produção de baterias de alto desempenho.
- Secagem e sinterização de materiais: É utilizado na sinterização a alta temperatura de cerâmicas, materiais refractários e materiais especiais, assegurando a consolidação e densificação destes materiais.
- Tratamento térmico em atmosfera e vácuo: A configuração do forno tubular vertical permite a têmpera, o recozimento e o revenido de pequenas peças de aço, bem como o revestimento CVD vertical, tornando-o uma mais-valia nos processos metalúrgicos.
- Investigação e desenvolvimento: É amplamente utilizado em universidades, institutos de investigação e empresas industriais e mineiras para a realização de experiências a alta temperatura, sinterização em atmosfera, atmosfera redutora e experiências CVD/CVI, contribuindo para o avanço da ciência e tecnologia dos materiais.
Caraterísticas
O forno tubular CVD de câmara dividida com máquina CVD de estação de vácuo é um equipamento sofisticado concebido para processos avançados de deposição de vapor químico (CVD). Este forno integra tecnologia de ponta para melhorar a eficiência e a qualidade da deposição de película, tornando-o ideal para aplicações industriais e de investigação. Aqui estão as principais caraterísticas e os seus benefícios:
- Elevada taxa de deposição de película: Utilizando a tecnologia de incandescência por radiofrequência, este forno aumenta significativamente a taxa de deposição de película, atingindo até 10Å/S. Esta deposição rápida é crucial para a produção e investigação de alto rendimento, poupando tempo e aumentando a produtividade.
- Uniformidade de grande área: Com a avançada tecnologia de alimentação RF multiponto e a distribuição especializada do percurso do gás, o forno assegura uma uniformidade de película até 8%. Esta uniformidade é essencial para criar revestimentos consistentes e de alta qualidade em grandes substratos, aumentando a fiabilidade dos materiais produzidos.
- Deposição consistente: O design incorpora conceitos avançados da indústria de semicondutores, resultando num desvio inferior a 2% entre substratos. Este elevado nível de consistência é vital para aplicações que requerem resultados precisos e repetíveis, como na produção de componentes electrónicos.
- Controlo estável do processo: A elevada estabilidade do equipamento assegura a continuidade e a consistência do processo CVD. Esta fiabilidade é fundamental para manter a integridade do processo e reduzir o risco de defeitos ou falhas durante o funcionamento.
- Sistema de controlo inteligente: Patenteado pela Bonage, o sistema de controlo integrado inclui um sistema de controlo de temperatura de alto desempenho que utiliza um mecanismo de feedback negativo em circuito fechado. Este sistema, combinado com componentes eléctricos importados de alta qualidade, melhora o desempenho global e a fiabilidade do equipamento, tornando-o praticamente isento de manutenção.
- Aplicações versáteis: Adequado para depositar vários tipos de películas, incluindo películas metálicas, cerâmicas e compósitas, o forno suporta processos de crescimento contínuo e pode ser facilmente expandido com funções adicionais, como limpeza por plasma e gravação. Esta versatilidade torna-o um ativo valioso para diversas necessidades de investigação e produção.
Princípio de funcionamento
O forno tubular CVD de câmara dividida com máquina CVD de estação de vácuo é um forno de vácuo de alta temperatura utilizado para processos de deposição de vapor químico (CVD). O CVD é um processo no qual uma película fina de material é depositada num substrato através da reação química de um gás ou vapor. O forno tubular CVD de câmara dividida com estação de vácuo da máquina CVD utiliza uma câmara de forno dividida para permitir um acesso fácil ao substrato durante o processo CVD. A estação de vácuo é utilizada para criar vácuo na câmara do forno, o que ajuda a remover as impurezas e a melhorar a qualidade da película depositada.
Vantagens
- Observação intuitiva da amostra e arrefecimento rápido: A câmara do forno dividida permite a observação direta das amostras de reação e um arrefecimento rápido.
- Capacidade para altas temperaturas: Temperatura máxima de trabalho de até 1200 ℃ para aplicações versáteis.
- Controle preciso de gás: O medidor de fluxo de massa MFC de 4 canais com fontes de CH4, H2, O2 e N2 garante um fornecimento de gás preciso e estável.
- Compatibilidade com o vácuo: A estação de vácuo com uma bomba de vácuo de palhetas rotativas 4L/S atinge uma pressão de vácuo máxima de até 10Pa, permitindo vários processos de vácuo.
- Aquecimento e arrefecimento a alta velocidade: O sistema de deslizamento da câmara do forno facilita o rápido aquecimento e arrefecimento para um processamento eficiente das amostras.
- Controlo avançado da temperatura: Controlo de temperatura programável PID com excelente precisão, controlo remoto e capacidades de controlo centralizado.
- Interface de fácil utilização: O controlador CTF Pro com um ecrã tátil TFT de 7 polegadas oferece uma configuração intuitiva do programa e análise de dados.
- Configuração de vácuo versátil: A flange de vácuo em aço inoxidável com portas adaptáveis acomoda diferentes estações de bomba de vácuo para ambientes de vácuo personalizados.
- Eficiência energética: O sistema de arrefecimento a água e o design de pós-fluxo de gás minimizam o consumo de energia.
- Ampla aplicabilidade: Adequado para CVD, difusão e outros tratamentos térmicos sob vácuo e proteção da atmosfera.
Vantagens de segurança
- O forno tubular Kindle Tech possui proteção contra sobrecarga de corrente e função de alarme de temperatura excessiva, o forno desliga-se automaticamente
- O forno possui uma função de deteção de pares térmicos, o forno pára de aquecer e o alarme é ativado quando é detectada uma avaria ou falha
- O KT-CTF12 Pro suporta a função de reinício por falha de energia, o forno retoma o programa de aquecimento do forno quando a energia é recebida após a falha
Especificações técnicas
| Modelo do forno | KT-CTF12-60 |
|---|---|
| Temperatura máxima | 1200℃ |
| Temperatura de trabalho constante | 1100℃ |
| Material do tubo do forno | Quartzo de alta pureza |
| Diâmetro do tubo do forno | 60mm |
| Comprimento da zona de aquecimento | 1x450mm |
| Material da câmara | Fibra de alumina do Japão |
| Elemento de aquecimento | Bobina de fio Cr2Al2Mo2 |
| Taxa de aquecimento | 0-20℃/min |
| Par térmico | Construído em tipo K |
| Controlador de temperatura | Controlador PID digital/controlador PID com ecrã tátil |
| Precisão do controlo de temperatura | ±1℃ |
| Distância de deslizamento | 600mm |
| Unidade de controlo de precisão de gás | |
| Medidor de caudal | Medidor de caudal mássico MFC |
| Canais de gás | 4 canais |
| Caudal |
MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearidade | ±0,5% F.S. |
| Repetibilidade | ±0,2% F.S. |
| Tubagem e válvula | Aço inoxidável |
| Pressão máxima de funcionamento | 0,45MPa |
| Controlador do caudalímetro | Controlador de botão digital/controlador de ecrã tátil |
| Unidade de vácuo standard (opcional) | |
| Bomba de vácuo | Bomba de vácuo de palhetas rotativas |
| Caudal da bomba | 4L/S |
| Porta de aspiração de vácuo | KF25 |
| Medidor de vácuo | Vacuómetro de silicone Pirani/Resistance |
| Pressão de vácuo nominal | 10Pa |
| Unidade de alto vácuo (opcional) | |
| Bomba de vácuo | Bomba de palhetas rotativas+Bomba molecular |
| Caudal da bomba | 4L/S+110L/S |
| Porta de aspiração de vácuo | KF25 |
| Medidor de vácuo | Medidor de vácuo composto |
| Pressão de vácuo nominal | 6x10-5Pa |
| As especificações e configurações acima podem ser personalizadas | |
Pacote padrão
| Não. | Descrição | Quantidade |
|---|---|---|
| 1 | Forno | 1 |
| 2 | Tubo de quartzo | 1 |
| 3 | Flange de vácuo | 2 |
| 4 | Bloco térmico do tubo | 2 |
| 5 | Gancho do bloco térmico do tubo | 1 |
| 6 | Luva resistente ao calor | 1 |
| 7 | Controlo preciso do gás | 1 |
| 8 | Unidade de vácuo | 1 |
| 9 | Manual de instruções | 1 |
Configuração opcional
- Deteção e monitorização de gases no tubo, como H2, O2, etc.
- Monitorização e registo independentes da temperatura do forno
- Porta de comunicação RS 485 para controlo remoto por PC e exportação de dados
- Controlo do caudal de alimentação de gases de inserção, como o caudalímetro de massa e o caudalímetro de flutuador
- Controlador de temperatura de ecrã tátil com funções versáteis e fáceis de utilizar
- Configurações de estação de bomba de alto vácuo, como bomba de vácuo de palhetas, bomba molecular, bomba de difusão
Para questões sobre personalização ou para saber mais sobre como a KINTEK pode apoiar as suas necessidades específicas de investigação, por favor preencha o nosso formulário de contacto ou contacte a nossa equipa de especialistas.
FAQ
O Que é Um Forno Tubular E Como Funciona?
Quais São As Principais Aplicações Dos Fornos Tubulares Multi-zona?
Qual é O Princípio De Funcionamento De Uma Máquina MPCVD?
Para Que é Utilizada Uma Máquina PECVD?
Quais São As Principais Aplicações De Um Forno De Vácuo?
O Que é Um Forno Tubular Vertical?
Para Que é Utilizado Um Forno Atmosférico?
O Que é Um Forno De Indução A Vácuo?
Qual é O Princípio De Funcionamento De Uma Máquina CVD?
Quais São As Principais Aplicações Dos Fornos Tubulares?
Quais São As Principais Caraterísticas Dos Fornos Tubulares Multi-zona?
Quais São As Vantagens De Utilizar Uma Máquina MPCVD?
Quais São Os Principais Tipos De Máquinas PECVD?
Quais São As Principais Caraterísticas De Um Forno De Vácuo?
Quais São As Aplicações De Um Forno Tubular Vertical?
Quais São As Principais Caraterísticas De Um Forno Atmosférico?
Quais São As Principais Aplicações Dos Fornos De Indução De Vácuo?
Quais São As Vantagens De Utilizar Uma Máquina CVD?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Tubular?
Como Funciona Um Forno Tubular Multi-zona?
Quais São As Principais Aplicações Das Máquinas MPCVD?
Como é Que Uma Máquina PECVD Funciona?
Como é Que Um Forno De Vácuo Funciona?
Quais São As Vantagens De Um Forno Tubular Vertical?
Como é Que Um Forno Atmosférico Funciona?
Como é Que Um Forno De Indução Por Vácuo Funciona?
Quais São As Aplicações De Uma Máquina CVD?
Que Tipos De Fornos Tubulares Estão Disponíveis?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Tubular Multi-zona?
Quais São Os Principais Componentes De Uma Máquina MPCVD?
Quais São As Principais Caraterísticas De Uma Máquina PECVD?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno De Vácuo?
Como é Que Um Forno Tubular Vertical Funciona?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Atmosférico?
Quais São As Vantagens Da Utilização De Um Forno De Indução De Vácuo?
Quais São As Principais Caraterísticas De Uma Máquina CVD?
Que Gamas De Temperatura Podem Atingir Os Fornos Tubulares?
Que Tipos De Fornos Tubulares Multi-zona Estão Disponíveis?
Como é Que Uma Máquina MPCVD Aumenta A Eficiência Energética?
Quais São As Vantagens De Utilizar Uma Máquina PECVD?
Que Tipos De Materiais Podem Ser Processados Num Forno De Vácuo?
Que Tipos De Fornos Tubulares Verticais Estão Disponíveis?
Que Tipos De Gases Podem Ser Utilizados Num Forno Atmosférico?
Que Tipos De Fornos De Indução A Vácuo Estão Disponíveis?
Que Tipos De Máquinas CVD Estão Disponíveis?
Os Fornos Tubulares Podem Funcionar Sob Diferentes Atmosferas?
Porque é Que A MPCVD é Preferida Para O Crescimento De Diamantes?
Que Materiais Podem Ser Depositados Utilizando Uma Máquina PECVD?
Qual é A Diferença Entre Fornos De Vácuo De Parede Quente E De Parede Fria?
Porquê Escolher Um Forno Tubular Vertical Em Vez De Um Horizontal?
Que Caraterísticas De Segurança Estão Disponíveis Nos Fornos Atmosféricos Avançados?
Porque é Que O Controlo Da Temperatura é Importante Nos Fornos De Indução De Vácuo?
O Que Torna Os Fornos Tubulares KINTEK Especiais?
Porque é Que O PECVD é Preferido Em Relação A Outros Métodos De Deposição?
Os Fornos De Vácuo Podem Ser Personalizados Para Aplicações Específicas?
Que Gamas De Temperatura Podem Atingir Os Fornos Tubulares Verticais?
Que Materiais Podem Ser Processados Num Forno De Indução A Vácuo?
Os Fornos Tubulares Verticais São Personalizáveis?
Como é Que O Ambiente De Vácuo Beneficia O Processamento De Materiais?
4.9
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Incredible precision and speed! This furnace exceeded my expectations for lab efficiency.
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Top-notch quality and durability. A game-changer for our research team!
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Fast delivery and easy setup. The vacuum station works flawlessly.
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Perfect for high-temperature applications. Highly recommend for advanced labs.
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Exceptional performance and reliability. Our experiments have never been smoother.
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Love the compact design! Saves space without compromising on power.
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The temperature control is spot-on. Perfect for delicate experiments.
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Durable and built to last. This machine is a workhorse.
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