CVD & PECVD Furnace
Forno tubular CVD versátil feito à medida Máquina de equipamento de deposição química de vapor CVD
Número do item : KT-CTF16
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Temperatura máxima
- 1600℃
- Precisão do controlo de temperatura
- ±1℃
- Pressão de vácuo (opção de alto vácuo)
- 6x10-5Pa
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Forno tubular CVD avançado da KINTEK: Precisão, versatilidade e personalização
Aproveitando a excecional I&D e o fabrico interno, a KINTEK fornece a diversos laboratórios e clientes industriais soluções avançadas de fornos de alta temperatura. A nossa extensa linha de produtos, incluindo fornos de mufla, tubulares, rotativos, fornos de vácuo e atmosféricos e sistemas CVD/PECVD/MPCVD especializados, é apoiada pela nossa forte e profunda capacidade de personalização. Estamos empenhados em satisfazer com precisão os seus requisitos experimentais e de produção exclusivos.
Visão geral do produto: Forno tubular CVD de alto desempenho
O forno tubular de deposição química de vapor (CVD) da KINTEK foi meticulosamente concebido para processos que exigem um controlo preciso da temperatura, da atmosfera e do fluxo de gás. É ideal para depositar películas finas de alta qualidade de vários materiais, incluindo materiais isolantes, metálicos e de ligas metálicas, cruciais para aplicações industriais e de investigação. Os nossos fornos CVD apresentam normalmente várias zonas de aquecimento para uma uniformidade de temperatura superior, sistemas de vácuo robustos e estações de controlo de gás de fluxo de massa sofisticadas para um fornecimento preciso de precursores. Dependendo da configuração, estes sistemas podem atingir temperaturas até 1600°C (como no nosso modelo KT-CTF16-60) e níveis de vácuo até 6x10 -5 Pa com opções de alto vácuo.
Principais vantagens e caraterísticas
Os nossos fornos tubulares CVD são concebidos para proporcionar um desempenho e fiabilidade excepcionais aos seus processos críticos:
- Controlo preciso da temperatura e uniformidade: Aquecimento multi-zona (por exemplo, 3x300mm no KT-CTF16-60) e controladores PID avançados (precisão de ±1°C) asseguram perfis de temperatura estáveis e uniformes, essenciais para uma qualidade de película consistente.
- Funcionamento versátil a altas temperaturas: Capaz de atingir temperaturas elevadas (por exemplo, até 1600°C de temperatura de trabalho constante 1550°C para o modelo KT-CTF16-60), adequado para uma vasta gama de processos CVD e sínteses de materiais.
- Gestão avançada de gás: Os sistemas de controlador de fluxo de massa (MFC) multicanal permitem uma mistura e fornecimento precisos de gases reagentes, com elevada linearidade (±0,5% F.S.) e repetibilidade (±0,2% F.S.).
- Capacidades flexíveis de vácuo e atmosfera: Os sistemas podem ser configurados para vários níveis de vácuo, desde bombas de palhetas rotativas padrão (por exemplo, 10Pa) até estações de bombas moleculares de alto vácuo (por exemplo, 6x10 -5 Pa), ou funcionar em atmosferas inertes/reativas controladas.
- Construção durável: Utiliza tubos de forno de alta pureza (por exemplo, Al 2 O 3 ) e materiais de câmara de qualidade (por exemplo, fibra policristalina de alumina) para longevidade e integridade do processo.
- Interface de fácil utilização: As opções para controladores PID digitais ou controladores PID com ecrã tátil oferecem um funcionamento intuitivo, registo de dados e configuração fácil.
- Design personalizável: Adaptado às suas necessidades específicas, desde o diâmetro do tubo e comprimento da zona de aquecimento até aos canais de gás e componentes de vácuo.
- Compacto e eficiente: Concebidos para ocuparem pouco espaço sem comprometerem o desempenho, tornando-os adequados para vários ambientes laboratoriais e industriais.
Especificações técnicas (Exemplo: Modelo KT-CTF16-60)
As especificações seguintes referem-se ao nosso modelo KT-CTF16-60. Tenha em atenção que as especificações podem ser personalizadas de acordo com os seus requisitos.
| Modelo do forno | KT-CTF16-60 |
|---|---|
| Temperatura máxima | 1600℃ |
| Temperatura de trabalho constante | 1550℃ |
| Material do tubo do forno | Tubo de Al2O3 de alta pureza |
| Diâmetro do tubo do forno | 60mm |
| Zona de aquecimento | 3x300mm |
| Material da câmara | Fibra policristalina de alumina |
| Elemento de aquecimento | Carbeto de silício |
| Taxa de aquecimento | 0-10℃/min |
| Par térmico | Tipo S |
| Controlador de temperatura | Controlador PID digital/controlador PID com ecrã tátil |
| Precisão do controlo de temperatura | ±1℃ |
| Unidade de controlo de precisão de gás | |
| Medidor de caudal | Medidor de caudal mássico MFC |
| Canais de gás | 3 canais (personalizáveis) |
| Caudal (exemplo) |
MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCCM CH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 (personalizável) |
| Linearidade | ±0,5% F.S. |
| Repetibilidade | ±0,2% F.S. |
| Tubagem e válvula | Aço inoxidável |
| Pressão máxima de funcionamento | 0,45MPa |
| Controlador do caudalímetro | Controlador de botão digital/controlador de ecrã tátil |
| Unidade de vácuo standard (opcional) | |
| Bomba de vácuo | Bomba de vácuo de palhetas rotativas |
| Caudal da bomba | 4L/S |
| Porta de aspiração de vácuo | KF25 |
| Medidor de vácuo | Vacuómetro de silicone Pirani/Resistance |
| Pressão de vácuo nominal | 10Pa |
| Unidade de alto vácuo (opcional) | |
| Bomba de vácuo | Bomba de palhetas rotativas+Bomba molecular |
| Caudal da bomba | 4L/S+110L/S |
| Porta de aspiração de vácuo | KF25 |
| Medidor de vácuo | Medidor de vácuo composto |
| Pressão de vácuo nominal | 6x10-5Pa |
| As especificações e configurações acima podem ser personalizadas | |
Configurações personalizáveis do sistema CVD
Na KINTEK, somos especialistas em adaptar os nossos sistemas de fornos CVD às suas necessidades precisas de investigação ou produção. Explore alguns exemplos das nossas configurações versáteis e personalizáveis:
Princípio de funcionamento
A Deposição Química de Vapor (CVD) é uma técnica versátil de deposição de película fina em que um material sólido é formado num substrato aquecido a partir de reagentes gasosos. Num forno tubular CVD da KINTEK, o substrato é colocado dentro de um tubo de alta pureza (normalmente quartzo ou alumina) e aquecido a uma temperatura controlada com precisão. Uma mistura cuidadosamente doseada de gases precursores é introduzida no tubo através de um sistema de controlo do fluxo de massa. Estes gases reagem ou decompõem-se na superfície quente do substrato ou perto dela, resultando na deposição da película fina desejada. Os principais aspectos operacionais incluem:
- Ambiente de alta temperatura: O forno cria uma zona estável de alta temperatura, necessária para as reacções químicas.
- Fluxo de gás controlado: Os controladores de fluxo de massa (MFCs) asseguram um fornecimento preciso e repetível de gases precursores e de transporte.
- Vácuo ou Atmosfera Controlada: Um sistema de vácuo remove contaminantes e subprodutos indesejados, ou pode ser mantida uma atmosfera controlada (inerte ou reactiva) para influenciar a química da deposição. Alguns sistemas podem empregar descarga luminescente de radiofrequência (RF) ou outras técnicas de melhoramento de plasma para deposição a temperaturas mais baixas ou taxas de deposição mais elevadas.
- Crescimento uniforme da película: A conceção cuidadosa das zonas de aquecimento e da dinâmica do fluxo de gás promove uma espessura e composição uniformes da película em todo o substrato.
Este processo é amplamente utilizado no fabrico de semicondutores, células solares, revestimentos protectores, nanomateriais e outros dispositivos electrónicos e ópticos avançados.
Vasta gama de aplicações
Os fornos tubulares CVD multi-zona KINTEK são ferramentas indispensáveis em vários sectores industriais e de investigação:
- Síntese de nanomateriais: Ideal para o crescimento de nanofios, nanotubos (por exemplo, nanotubos de carbono) e preparação de nanofilmes para o desenvolvimento de materiais avançados.
- Tecnologias de revestimento avançadas: Amplamente utilizadas para depositar películas metálicas, películas cerâmicas (óxidos, nitretos, carbonetos) e películas compostas para melhorar as propriedades da superfície, como a dureza, a resistência à corrosão ou a condutividade.
- Semicondutores e eletrónica: Essencial para a deposição de camadas isolantes, semicondutoras e condutoras no fabrico de circuitos integrados, sensores e outros componentes electrónicos.
- Processamento de materiais para baterias: Adequado para secagem, sinterização e modificação da superfície de materiais de bateria para dispositivos de armazenamento de energia de alto desempenho.
- Sinterização e recozimento a alta temperatura: Empregado para sinterização em atmosfera de alta temperatura, redução de atmosfera e processos de recozimento para densificação de materiais e refinamento de propriedades.
- Revestimento por vácuo e atmosfera: As capacidades de alto vácuo tornam-no perfeito para aplicações em que a pureza e a qualidade do revestimento são fundamentais.
- Investigação e desenvolvimento: Extensivamente utilizado em universidades e institutos de investigação científica para estudos fundamentais de ciência dos materiais, incluindo experiências de CVD/CVI (Infiltração de Vapor Químico).
- Processos melhorados por plasma: Pode ser adaptado para CVD melhorado por plasma (PECVD), limpeza por plasma e gravação, expandindo a sua versatilidade funcional.
Embalagem standard (Exemplo para KT-CTF16-60)
| Não. | Descrição | Quantidade |
|---|---|---|
| 1 | Corpo do forno com controlo de temperatura | 1 |
| 2 | Tubo de alumina de alta pureza ou de quartzo (conforme a encomenda) | 1 |
| 3 | Flanges de vedação a vácuo com orifícios | 2 conjuntos |
| 4 | Blocos/Tampões térmicos para tubos | 2 |
| 5 | Gancho para bloco térmico de tubo | 1 |
| 6 | Luvas resistentes ao calor | 1 par |
| 7 | Unidade de controlo preciso do gás (MFCs por encomenda) | 1 conjunto |
| 8 | Unidade de vácuo (bomba e manómetro por encomenda) | 1 conjunto |
| 9 | Manual de operação | 1 |
Configurações opcionais e personalizações
Melhore o seu sistema CVD com uma gama de caraterísticas opcionais para satisfazer necessidades experimentais específicas:
- Sistemas de deteção e monitorização de gases no tubo (por exemplo, para H2, O2, etc.).
- Módulos independentes de monitorização da temperatura do forno e de registo de dados.
- Porta de comunicação RS 485 para controlo remoto por PC e exportação de dados.
- Várias opções de controlo do caudal de alimentação de gás, incluindo diferentes gamas para caudalímetros de massa e caudalímetros de flutuador.
- Controladores avançados de temperatura com ecrã tátil com funções versáteis e fáceis de utilizar (por exemplo, rampas programáveis, registo de dados).
- Configurações actualizadas de estações de bombas de alto vácuo, incorporando opções como bombas de vácuo de palhetas, bombas moleculares ou bombas de difusão.
- Sistemas de fornecimento de precursores líquidos/sólidos (por exemplo, borbulhadores, vaporizadores).
- Sistemas de redução de gases de escape.
Parceria com a KINTEK para as suas soluções CVD
Pronto para elevar a sua investigação ou processos industriais com um forno tubular CVD de última geração? A equipa da KINTEK dedica-se a fornecer-lhe um sistema que se alinhe perfeitamente com os requisitos da sua aplicação, apoiado pela nossa experiência em tecnologia de alta temperatura e personalização.
Contacte-nos hoje para discutir as suas necessidades específicas, explorar as opções de personalização ou solicitar um orçamento detalhado. Deixe-nos ajudá-lo a alcançar resultados inigualáveis nos seus esforços de deposição de materiais.
FAQ
O Que é Um Forno Tubular E Como Funciona?
Quais São As Principais Aplicações Dos Fornos Tubulares Multi-zona?
Qual é O Princípio De Funcionamento De Uma Máquina CVD?
O Que é Um Forno Tubular Vertical?
O Que é Um Forno De Indução A Vácuo?
Quais São As Principais Aplicações De Um Forno De Vácuo?
Para Que é Utilizada Uma Máquina PECVD?
Para Que é Utilizado Um Forno Atmosférico?
Quais São As Principais Aplicações Dos Fornos Tubulares?
Quais São As Principais Caraterísticas Dos Fornos Tubulares Multi-zona?
Quais São As Vantagens De Utilizar Uma Máquina CVD?
Quais São As Aplicações De Um Forno Tubular Vertical?
Quais São As Principais Aplicações Dos Fornos De Indução De Vácuo?
Quais São As Principais Caraterísticas De Um Forno De Vácuo?
Quais São Os Principais Tipos De Máquinas PECVD?
Quais São As Principais Caraterísticas De Um Forno Atmosférico?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Tubular?
Como Funciona Um Forno Tubular Multi-zona?
Quais São As Aplicações De Uma Máquina CVD?
Quais São As Vantagens De Um Forno Tubular Vertical?
Como é Que Um Forno De Indução Por Vácuo Funciona?
Como é Que Um Forno De Vácuo Funciona?
Como é Que Uma Máquina PECVD Funciona?
Como é Que Um Forno Atmosférico Funciona?
Que Tipos De Fornos Tubulares Estão Disponíveis?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Tubular Multi-zona?
Quais São As Principais Caraterísticas De Uma Máquina CVD?
Como é Que Um Forno Tubular Vertical Funciona?
Quais São As Vantagens Da Utilização De Um Forno De Indução De Vácuo?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno De Vácuo?
Quais São As Principais Caraterísticas De Uma Máquina PECVD?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Atmosférico?
Que Gamas De Temperatura Podem Atingir Os Fornos Tubulares?
Que Tipos De Fornos Tubulares Multi-zona Estão Disponíveis?
Que Tipos De Máquinas CVD Estão Disponíveis?
Que Tipos De Fornos Tubulares Verticais Estão Disponíveis?
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Que Tipos De Materiais Podem Ser Processados Num Forno De Vácuo?
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Que Tipos De Gases Podem Ser Utilizados Num Forno Atmosférico?
Os Fornos Tubulares Podem Funcionar Sob Diferentes Atmosferas?
Porquê Escolher Um Forno Tubular Vertical Em Vez De Um Horizontal?
Porque é Que O Controlo Da Temperatura é Importante Nos Fornos De Indução De Vácuo?
Qual é A Diferença Entre Fornos De Vácuo De Parede Quente E De Parede Fria?
Que Materiais Podem Ser Depositados Utilizando Uma Máquina PECVD?
Que Caraterísticas De Segurança Estão Disponíveis Nos Fornos Atmosféricos Avançados?
O Que Torna Os Fornos Tubulares KINTEK Especiais?
Que Gamas De Temperatura Podem Atingir Os Fornos Tubulares Verticais?
Que Materiais Podem Ser Processados Num Forno De Indução A Vácuo?
Os Fornos De Vácuo Podem Ser Personalizados Para Aplicações Específicas?
Porque é Que O PECVD é Preferido Em Relação A Outros Métodos De Deposição?
Os Fornos Tubulares Verticais São Personalizáveis?
Como é Que O Ambiente De Vácuo Beneficia O Processamento De Materiais?
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