
CVD & PECVD Furnace
Máquina de forno tubular CVD com várias zonas de aquecimento para equipamento de deposição química de vapor
Número do item : KT-CTF14
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Temperatura máxima
- 1400℃
- Zona de aquecimento
- 2x450mm
- Precisão do controlo de temperatura
- ±1℃

Envio:
Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite Garantia de envio dentro do prazo.
Descubra os avançados fornos tubulares CVD multi-zona da KINTEK
Na KINTEK, tiramos partido da excecional I&D e do fabrico interno para fornecer a diversos laboratórios soluções avançadas de fornos de alta temperatura. Os nossos fornos tubulares CVD multi-zona são concebidos para precisão, fiabilidade e adaptabilidade, capacitando os seus processos de investigação e produção.
Apresentação do produto: Forno tubular CVD de várias zonas de aquecimento





Diagrama esquemático da estrutura típica da câmara de reação do equipamento PECVD tubular 1. Orifício de exaustão;2. Flange de extremidade da cauda;3. Flange de resfriamento da água da cauda: 4. Flange de vedação da cauda;5. Flange de fixação da cauda;6. Haste do elétrodo;7. Barco de grafite;8. Tubo do forno de quartzo;9. Flange de fixação frontal;10. Flange de refrigeração de água frontal: 11. Flange de entrada de ar frontal;12. Porta do forno
O que é um forno tubular CVD multi-zona?
Um forno tubular de Deposição Química de Vapor (CVD) multi-zona é um equipamento de laboratório especializado concebido para depositar películas finas em substratos através de reacções químicas de gases ou vapores. A vantagem crítica da conceção "multi-zona" reside nas suas múltiplas zonas de aquecimento, controladas independentemente. Isto permite a manipulação precisa do perfil de temperatura dentro do forno, um fator crucial para muitos processos CVD, uma vez que a temperatura influencia diretamente as propriedades da película depositada. Estes fornos são indispensáveis tanto para a investigação e desenvolvimento de ponta como para aplicações de produção exigentes.
Porquê escolher os fornos CVD multi-zona da KINTEK?
Os fornos tubulares CVD multi-zona da KINTEK são concebidos para proporcionar um desempenho superior e adaptabilidade para os seus processos críticos. Eis como potenciamos o seu trabalho:
- Precisão de temperatura inigualável: Zonas de aquecimento independentes permitem a criação de campos de temperatura constante alargados ou gradientes de temperatura controlados com precisão, essenciais para deposição uniforme e síntese de materiais especializados.
- Controlo avançado do processo: O controlo de temperatura programável PID garante uma excelente precisão. Juntamente com as capacidades de controlo remoto e centralizado, ganha-se flexibilidade e facilidade de monitorização.
- Fornecimento de gás estável e preciso: Os caudalímetros de massa MFC (Controlador de Fluxo de Massa) de elevada precisão asseguram velocidades de fornecimento de gás precisas e estáveis, incluindo opções para pré-misturar gases de origem, vitais para uma qualidade de película consistente.
- Ambiente fiável de alto vácuo: As robustas flanges de vácuo em aço inoxidável com várias portas de adaptação garantem uma excelente vedação, alcançando e mantendo os elevados graus de vácuo necessários para processos CVD sensíveis.
- Operação e análise de dados fáceis de utilizar: Modelos selecionados, como o KT-CTF14 Pro, possuem um controlador de ecrã tátil TFT de 7 polegadas, simplificando a definição de programas e permitindo uma análise fácil de dados históricos.
- Versatilidade para diversas aplicações: Os nossos fornos não se limitam a CVD; são também ideais para difusão, recozimento, sinterização e outros tratamentos térmicos sob vácuo ou atmosferas controladas.
- Design com eficiência energética: Com um isolamento de fibra cerâmica de alta qualidade e uma estrutura de camada dupla, os nossos fornos minimizam a perda de calor, reduzindo as temperaturas externas e poupando energia.
- Materiais duráveis e personalizáveis: Os tubos do forno estão disponíveis em vários materiais, como aço resistente ao calor, vidro de quartzo de alta pureza e cerâmica, para se adaptarem a diversos ambientes químicos e requisitos de temperatura.
Princípio de funcionamento
O forno tubular CVD de zonas de aquecimento múltiplo utiliza o processo de deposição de vapor químico (CVD) para depositar películas finas em substratos. Os precursores gasosos, normalmente compostos orgânicos metálicos e/ou hidretos, são introduzidos na câmara do forno. Estes precursores reagem quimicamente a temperaturas controladas para formar um material de película sólida no substrato. As múltiplas zonas de aquecimento do forno permitem um controlo preciso da temperatura de deposição e do gradiente de temperatura ao longo do substrato, permitindo a deposição de películas de alta qualidade com propriedades personalizadas, como a espessura, a composição e a cristalinidade. Está integrado um sistema de vácuo para remover impurezas e controlar a pressão de deposição, garantindo condições de processo óptimas.
Aplicações
Os nossos fornos tubulares CVD de zonas de aquecimento múltiplo são amplamente utilizados em vários campos avançados, incluindo
- Deposição química de vapor (CVD): Crescimento de películas finas para dispositivos electrónicos, semicondutores, células solares, revestimentos e nanomateriais.
- Difusão: Dopagem precisa de semicondutores e metais.
- Recozimento: Tratamento térmico de materiais para melhorar as suas propriedades estruturais e físicas.
- Sinterização: Ligação de materiais em pó através de calor e pressão controlados para formar estruturas sólidas.
- Tratamentos térmicos: Uma vasta gama de processos de aquecimento e arrefecimento controlados para investigação e modificação de materiais.
- Análise e determinação de elementos: Preparação de amostras para fins analíticos.
- Processamento de materiais: Têmpera, recozimento e revenimento de pequenas peças de aço, desenvolvimento de cerâmica eletrónica e outros novos materiais.
Especificações técnicas
Modelo do forno | KT-CTF14-60 |
---|---|
Temperatura máxima | 1400℃ |
Temperatura de trabalho constante | 1300℃ |
Material do tubo do forno | Tubo de Al2O3 de alta pureza |
Diâmetro do tubo do forno | 60mm |
Zona de aquecimento | 2x450mm |
Material da câmara | Fibra policristalina de alumina |
Elemento de aquecimento | Carboneto de silício |
Taxa de aquecimento | 0-10℃/min |
Par térmico | Tipo S |
Controlador de temperatura | Controlador PID digital/controlador PID com ecrã tátil |
Precisão do controlo de temperatura | ±1℃ |
Unidade de controlo de precisão de gás | |
Medidor de caudal | Medidor de caudal mássico MFC |
Canais de gás | 4 canais |
Caudal |
MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
Linearidade | ±0,5% F.S. |
Repetibilidade | ±0,2% F.S. |
Tubagem e válvula | Aço inoxidável |
Pressão máxima de funcionamento | 0,45MPa |
Controlador do caudalímetro | Controlador de botão digital/controlador de ecrã tátil |
Unidade de vácuo standard (opcional) | |
Bomba de vácuo | Bomba de vácuo de palhetas rotativas |
Caudal da bomba | 4L/S |
Porta de aspiração de vácuo | KF25 |
Medidor de vácuo | Vacuómetro de silicone Pirani/Resistance |
Pressão de vácuo nominal | 10Pa |
Unidade de alto vácuo (opcional) | |
Bomba de vácuo | Bomba de palhetas rotativas+Bomba molecular |
Caudal da bomba | 4L/S+110L/S |
Porta de aspiração de vácuo | KF25 |
Medidor de vácuo | Medidor de vácuo composto |
Pressão de vácuo nominal | 6x10-5Pa |
As especificações e configurações acima podem ser personalizadas |
Pacote padrão
Não. | Descrição | Quantidade |
---|---|---|
1 | Forno | 1 |
2 | Tubo de quartzo (ou outro material conforme a encomenda) | 1 |
3 | Conjunto de flanges de vácuo | 2 |
4 | Bloco térmico do tubo | 2 |
5 | Gancho do bloco térmico do tubo | 1 |
6 | Luva resistente ao calor | 1 |
7 | Unidade de controlo de gás de precisão (se encomendada) | 1 |
8 | Unidade de vácuo (se encomendada) | 1 |
9 | Manual de instruções | 1 |
Personalização profunda para as suas necessidades exclusivas
A KINTEK destaca-se por fornecer soluções de fornos profundamente personalizadas para satisfazer com precisão os requisitos experimentais e de produção únicos. Para além das nossas configurações padrão, oferecemos uma vasta gama de configurações e modificações opcionais:
- Deteção e monitorização de gás no tubo (por exemplo, H2, O2).
- Sistemas independentes de monitorização e registo da temperatura do forno.
- Porta de comunicação RS 485 para controlo remoto por PC e exportação de dados.
- Opções versáteis de controlo do caudal de alimentação de gás, incluindo vários caudalímetros de massa e caudalímetros de flutuador.
- Controladores avançados de temperatura com ecrã tátil, com interfaces de fácil utilização e amplas capacidades de programação.
- Configurações abrangentes de estações de bombas de alto vácuo, incorporando bombas de vácuo de palhetas, bombas moleculares, bombas de difusão e muito mais.
- Dimensões de fornos personalizados, configurações de zonas de aquecimento e escolhas de materiais.
Diga-nos qual é o seu desafio e nós projectaremos a solução.
Parceria com a KINTEK para as suas soluções de alta temperatura
Com uma base sólida em I&D e fabrico interno, a KINTEK dedica-se a fornecer aos laboratórios de todo o mundo sistemas avançados de fornos de alta temperatura, incluindo fornos de mufla, fornos tubulares, fornos rotativos, fornos de vácuo e atmosfera e sistemas CVD/PECVD/MPCVD especializados. O nosso compromisso com a personalização profunda garante que recebe um forno perfeitamente adaptado aos seus objectivos experimentais específicos.
Pronto para elevar as suas capacidades de processamento de materiais e investigação? Discuta os seus requisitos com a nossa equipa de especialistas.
Contacte-nos para obter uma solução personalizada ou um orçamento
FAQ
O Que é Um Forno Tubular E Como Funciona?
Quais São As Principais Aplicações Dos Fornos Tubulares Multi-zona?
O Que é Um Forno Tubular Vertical?
O Que é Um Forno De Indução A Vácuo?
Quais São As Principais Aplicações De Um Forno De Vácuo?
Para Que é Utilizado Um Forno Atmosférico?
Quais São As Principais Aplicações Dos Fornos Tubulares?
Quais São As Principais Caraterísticas Dos Fornos Tubulares Multi-zona?
Quais São As Aplicações De Um Forno Tubular Vertical?
Quais São As Principais Aplicações Dos Fornos De Indução De Vácuo?
Quais São As Principais Caraterísticas De Um Forno De Vácuo?
Quais São As Principais Caraterísticas De Um Forno Atmosférico?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Tubular?
Como Funciona Um Forno Tubular Multi-zona?
Quais São As Vantagens De Um Forno Tubular Vertical?
Como é Que Um Forno De Indução Por Vácuo Funciona?
Como é Que Um Forno De Vácuo Funciona?
Como é Que Um Forno Atmosférico Funciona?
Que Tipos De Fornos Tubulares Estão Disponíveis?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Tubular Multi-zona?
Como é Que Um Forno Tubular Vertical Funciona?
Quais São As Vantagens Da Utilização De Um Forno De Indução De Vácuo?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno De Vácuo?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Atmosférico?
Que Gamas De Temperatura Podem Atingir Os Fornos Tubulares?
Que Tipos De Fornos Tubulares Multi-zona Estão Disponíveis?
Que Tipos De Fornos Tubulares Verticais Estão Disponíveis?
Que Tipos De Fornos De Indução A Vácuo Estão Disponíveis?
Que Tipos De Materiais Podem Ser Processados Num Forno De Vácuo?
Que Tipos De Gases Podem Ser Utilizados Num Forno Atmosférico?
Os Fornos Tubulares Podem Funcionar Sob Diferentes Atmosferas?
Porquê Escolher Um Forno Tubular Vertical Em Vez De Um Horizontal?
Porque é Que O Controlo Da Temperatura é Importante Nos Fornos De Indução De Vácuo?
Qual é A Diferença Entre Fornos De Vácuo De Parede Quente E De Parede Fria?
Que Caraterísticas De Segurança Estão Disponíveis Nos Fornos Atmosféricos Avançados?
O Que Torna Os Fornos Tubulares KINTEK Especiais?
Que Gamas De Temperatura Podem Atingir Os Fornos Tubulares Verticais?
Que Materiais Podem Ser Processados Num Forno De Indução A Vácuo?
Os Fornos De Vácuo Podem Ser Personalizados Para Aplicações Específicas?
Os Fornos Tubulares Verticais São Personalizáveis?
Como é Que O Ambiente De Vácuo Beneficia O Processamento De Materiais?
4.9
out of
5
Incredible precision and control! The multi-zone heating is a game-changer for our lab.
4.8
out of
5
Fast delivery and flawless setup. This furnace exceeded our expectations!
4.7
out of
5
Worth every penny! The quality and durability are unmatched.
4.9
out of
5
Top-notch technology. The temperature uniformity is perfect for our research.
4.8
out of
5
Efficient and reliable. Our experiments have never been smoother.
4.7
out of
5
Great value for money. The build quality is impressive.
4.9
out of
5
A must-have for any serious lab. The performance is stellar.
4.8
out of
5
Quick setup and easy to use. Highly recommend this furnace!
4.7
out of
5
Durable and efficient. Perfect for high-temperature applications.
4.9
out of
5
The multi-zone feature is revolutionary. Our productivity has soared.
4.8
out of
5
Exceptional craftsmanship. This furnace is built to last.
4.7
out of
5
Reliable and precise. A fantastic investment for any lab.
4.9
out of
5
Cutting-edge technology. The temperature control is impeccable.
4.8
out of
5
Fast shipping and excellent customer service. Very satisfied!
4.7
out of
5
High-quality materials and superb performance. Highly recommend.
4.9
out of
5
The best furnace we've used. The multi-zone heating is brilliant.
4.8
out of
5
Perfect for our CVD needs. The machine is a workhorse.
Produtos
Máquina de forno tubular CVD com várias zonas de aquecimento para equipamento de deposição química de vapor
SOLICITAR UM ORÇAMENTO
Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!
Produtos relacionados

Forno tubular rotativo com várias zonas de aquecimento divididas Forno tubular rotativo
Forno tubular rotativo de precisão com várias zonas de aquecimento para processamento de materiais a alta temperatura, com inclinação ajustável, rotação de 360° e zonas de aquecimento personalizáveis. Ideal para laboratórios.

Forno tubular CVD de câmara dividida com máquina CVD de estação de vácuo
Forno tubular CVD de câmara dividida com estação de vácuo - Forno de laboratório de alta precisão a 1200°C para investigação de materiais avançados. Soluções personalizáveis disponíveis.

Forno tubular CVD versátil feito à medida Máquina de equipamento de deposição química de vapor CVD
O forno tubular CVD da KINTEK oferece um controlo preciso da temperatura até 1600°C, ideal para a deposição de películas finas. Personalizável para necessidades industriais e de investigação.

Forno tubular de quartzo para laboratório Forno tubular de aquecimento RTP
O forno tubular de aquecimento rápido RTP da KINTEK proporciona um controlo preciso da temperatura, um aquecimento rápido até 100°C/seg e opções de atmosfera versáteis para aplicações laboratoriais avançadas.

Forno tubular Slide PECVD com gaseificador líquido Máquina PECVD
Forno tubular KINTEK Slide PECVD: Deposição de película fina de precisão com plasma RF, ciclo térmico rápido e controlo de gás personalizável. Ideal para semicondutores e células solares.

Máquina de forno tubular PECVD para deposição química melhorada por plasma inclinado
A máquina de revestimento PECVD da KINTEK fornece películas finas de precisão a baixas temperaturas para LEDs, células solares e MEMS. Soluções personalizáveis e de elevado desempenho.

Forno para prensagem a quente com vácuo Forno tubular para prensagem a vácuo com aquecimento
Descubra o avançado forno de prensagem a quente com tubo de vácuo da KINTEK para sinterização precisa a alta temperatura, prensagem a quente e ligação de materiais. Soluções personalizáveis para laboratórios.

Forno tubular de vácuo de laboratório de alta pressão Forno tubular de quartzo
Forno tubular de alta pressão KINTEK: Aquecimento de precisão até 1100°C com controlo de pressão de 15Mpa. Ideal para sinterização, crescimento de cristais e investigação laboratorial. Soluções personalizáveis disponíveis.

1700℃ Forno tubular de laboratório de alta temperatura com tubo de quartzo ou de alumina
Forno tubular da KINTEK com tubo de alumina: Aquecimento de precisão até 1700°C para síntese de materiais, CVD e sinterização. Compacto, personalizável e pronto para vácuo. Explore agora!

Forno tubular rotativo com inclinação para vácuo para laboratório Forno tubular rotativo
Forno rotativo de laboratório KINTEK: Aquecimento de precisão para calcinação, secagem e sinterização. Soluções personalizáveis com vácuo e atmosfera controlada. Melhore a investigação agora!

Elementos de aquecimento térmico de carboneto de silício SiC para forno elétrico
Elementos de aquecimento SiC de alto desempenho para laboratórios, oferecendo precisão de 600-1600°C, eficiência energética e longa vida útil. Soluções personalizáveis disponíveis.

Forno tubular rotativo de trabalho contínuo selado a vácuo Forno tubular rotativo
Forno tubular rotativo de precisão para processamento contínuo em vácuo. Ideal para calcinação, sinterização e tratamento térmico. Personalizável até 1600℃.

Máquina de forno de prensagem a quente com vácuo para laminação e aquecimento
Prensa de laminação a vácuo KINTEK: Colagem de precisão para aplicações de wafer, película fina e LCP. Temperatura máxima de 500°C, pressão de 20 toneladas, certificação CE. Soluções personalizadas disponíveis.

Pequeno forno para tratamento térmico sob vácuo e sinterização de fios de tungsténio
Forno compacto de sinterização de fio de tungsténio por vácuo para laboratórios. Design preciso e móvel com integridade de vácuo superior. Ideal para a investigação de materiais avançados. Contacte-nos!

Passagem fiável de eléctrodos de vácuo com flange CF/KF para sistemas de vácuo de elevado desempenho. Garante uma vedação, condutividade e durabilidade superiores. Opções personalizáveis disponíveis.

Forno de prensagem a vácuo a quente Máquina de prensagem a vácuo aquecida
Forno de prensagem a quente sob vácuo KINTEK: Aquecimento e prensagem de precisão para uma densidade de material superior. Personalizável até 2800°C, ideal para metais, cerâmicas e compósitos. Explore os recursos avançados agora!

Tubo com flange KF ISO CF de aço inoxidável para vácuo ultra-alto Tubo em T reto com encaixe cruzado
Sistemas de tubos com flange de aço inoxidável de ultra-alto vácuo KF/ISO/CF para aplicações de precisão. Personalizáveis, duráveis e estanques. Obtenha soluções especializadas agora!

Forno SPS para sinterização por plasma com faísca
Descubra o avançado forno de sinterização por plasma de faísca (SPS) da KINTEK para o processamento rápido e preciso de materiais. Soluções personalizáveis para investigação e produção.

Sistema RF PECVD Deposição de vapor químico enriquecida com plasma de radiofrequência
Sistema PECVD RF KINTEK: Deposição de película fina de precisão para semicondutores, ótica e MEMS. Processo automatizado e de baixa temperatura com qualidade de película superior. Soluções personalizadas disponíveis.