Forno CVD & PECVD
Forno tubular de deposição química melhorada por plasma rotativo inclinado - Máquina PECVD
Número do item : KT-PED
O preço varia com base em especificações e personalizações
- Temperatura de aquecimento
- ≤800℃
- Grau de vácuo
- ≤5×10-5Pa
- Potência de saída
- 500W — 1000W
Envio:
Entre em contato conosco para obter detalhes de envio. Aproveite Garantia de envio dentro do prazo.
Por Que Nos Escolher
Processo de pedido fácil, produtos de qualidade e suporte dedicado para o sucesso do seu negócio.
Máquina de revestimento por Deposição Química de Vapor Melhorada por Plasma (PECVD)


Sistemas avançados de PECVD da KINTEK: Revestimento de precisão, adaptado às suas necessidades
Aproveitando uma excepcional capacidade de P&D e fabricação própria, a KINTEK oferece sistemas de ponta de Deposição Química de Vapor Melhorada por Plasma (PECVD) desenvolvidos para diversos laboratórios e aplicações industriais. O PECVD é uma técnica sofisticada de deposição de filmes finos a vácuo que utiliza plasma para ativar gases precursores. Isso permite a criação de revestimentos de alta qualidade e uniformes em temperaturas significativamente mais baixas do que a Deposição Química de Vapor (CVD) tradicional, ampliando as possibilidades para substratos sensíveis ao calor (como plásticos) e uma ampla gama de materiais de revestimento (incluindo dielétricos, semicondutores e isolantes).
Nossas máquinas de PECVD são uma oferta chave no conjunto completo de soluções avançadas de fornos de alta temperatura da KINTEK, que também inclui fornos mufla, tubulares e rotativos, fornos a vácuo e atmosfera, e outros sistemas de CVD/MPCVD. Nos orgulhamos da nossa forte capacidade de personalização aprofundada, garantindo que o seu sistema de PECVD seja projetado precisamente para atender aos seus requisitos únicos de experimentação e produção.
Principais recursos
As Máquinas de Revestimento por Deposição Química de Vapor Melhorada por Plasma (PECVD) da KINTEK oferecem uma gama de recursos projetados para desempenho superior e versatilidade:
- Deposição em baixa temperatura: Permite a formação de filmes de alta qualidade em substratos delicados ou de baixo ponto de fusão sem danos térmicos, ampliando significativamente a compatibilidade de materiais.
- Altas taxas de deposição: Alcança um crescimento rápido de filmes, maximizando a produtividade, reduzindo o tempo de processamento e aumentando a produtividade geral.
- Filmes uniformes e resistentes a rachaduras: Produz revestimentos com excepcional consistência de espessura e propriedades em todo o substrato, minimizando defeitos como rachaduras para resultados confiáveis e duráveis.
- Excelente adesão ao substrato: Garante uma forte ligação entre o filme depositado e o material do substrato, proporcionando desempenho duradouro e evitando a delaminação.
- Capacidade de revestimento versátil: Suporta a deposição de uma ampla variedade de materiais, como SiO2, SiNx, SiOxNy e muito mais, atendendo a diversas necessidades de aplicação.
- Revestimento conformal em geometrias complexas: Capaz de revestir uniformemente substratos com formas e topografias intricadas, garantindo cobertura abrangente e desempenho ideal.
- Design amigável: Projetado para baixos requisitos de manutenção e instalação simples, minimizando o tempo de inatividade e simplificando a integração no seu fluxo de trabalho.
Especificações técnicas
| Suporte de amostra | Tamanho | 1 a 6 polegadas |
| Velocidade de rotação | 0-20rpm ajustável | |
| Temperatura de aquecimento | ≤800℃ | |
| Precisão de controle | ±0,5℃ Controlador PID SHIMADEN | |
| Purga de gás | Medidor de vazão | Controlador de Medidor de Vazão de Massa (MFC) |
| Canais | 4 canais | |
| Método de resfriamento | Resfriamento por água circulante | |
| Câmara a vácuo | Tamanho da câmara | Φ500mm X 550mm |
| Porta de observação | Porta de visualização completa com defletor | |
| Material da câmara | Aço inoxidável 316 | |
| Tipo de porta | Porta de abertura frontal | Material da tampa | Aço inoxidável 304 |
| Porta da bomba de vácuo | Flange CF200 | |
| Porta de entrada de gás | Conector VCR φ6 | |
| Potência do plasma | Potência da fonte | Fonte DC ou potência RF |
| Modo de acoplamento | Acoplamento indutivo ou capacitivo de placa | |
| Potência de saída | 500W — 1000W | |
| Potência de polarização | 500v | |
| Bomba de vácuo | Pré-bomba | Bomba de vácuo de palhetas 15L/S |
| Porta da bomba turbo | CF150/CF200 620L/S-1600L/S | |
| Porta de alívio | KF25 | |
| Velocidade da bomba | Bomba de palhetas: 15L/s, Bomba turbo: 1200l/s ou 1600l/s | |
| Grau de vácuo | ≤5×10-5Pa | |
| Sensor de vácuo | Vacuômetro de ionização/resistência/medidor de filme | |
| Sistema | Fonte de alimentação elétrica | AC 220V /380 50Hz |
| Potência nominal | 5kW | |
| Dimensões | 900mm X 820mm X870mm | |
| Peso | 200kg |
Aplicações
As máquinas de revestimento por Deposição Química de Vapor Melhorada por Plasma (PECVD) da KINTEK oferecem uma solução versátil para uma ampla gama de indústrias e aplicações de ponta:
- Iluminação LED: Deposição de filmes dielétricos e semicondutores de alta qualidade, cruciais para diodos emissores de luz (LEDs) eficientes e duráveis.
- Semicondutores de potência: Formação de camadas isolantes, óxidos de porta e outros componentes de filme críticos em dispositivos semicondutores de potência.
- MEMS (Sistemas Microeletromecânicos): Fabricação de filmes finos precisos para sensores, atuadores e outros dispositivos de microescala.
- Revestimentos ópticos: Deposição de revestimentos anti-reflexo, filtros ópticos, camadas protetoras e outros componentes ópticos funcionais.
- Células solares de filme fino: Produção de filmes finos de silício amorfo e microcristalino, além de outros materiais semicondutores, para dispositivos fotovoltaicos.
- Modificação de superfície: Melhoria das propriedades da superfície do material, incluindo maior resistência à corrosão, resistência ao desgaste, dureza e biocompatibilidade.
- Nanotecnologia: Síntese de nanomateriais avançados, como nanopartículas, nanofios e filmes ultrafinos para aplicações inovadoras.
Por que se associar à KINTEK para tecnologia PECVD?
Escolher a KINTEK para suas necessidades de PECVD significa investir em qualidade, confiabilidade e soluções personalizadas:
- Personalização aprofundada: Somos especializados em configurar sistemas de PECVD de acordo com suas especificações exatas, garantindo o desempenho ideal para suas aplicações exclusivas e objetivos de pesquisa.
- P&D e fabricação avançadas: Nossa expertise interna impulsiona a inovação, permitindo que ofereçamos tecnologia de PECVD de última geração.
- Construção de alta qualidade: Nossos sistemas apresentam projetos rígidos construídos com materiais premium como aço inoxidável para estabilidade, durabilidade e vida útil prolongada.
- Desempenho confiável: Projetadas para resultados consistentes, nossas máquinas de PECVD produzem filmes finos de alta qualidade e uniformes com excelente adesão.
- Suporte completo: Desde a instalação fácil até baixos requisitos de manutenção, garantimos que nossos sistemas sejam amigáveis e contamos com um atendimento ao cliente ágil.
- Versatilidade: Nossas máquinas podem depositar uma ampla variedade de materiais, tornando-as adequadas para diversos processos de pesquisa e industriais.
Princípio de funcionamento
A Deposição Química de Vapor Melhorada por Plasma (PECVD) é um processo que utiliza plasma (um gás ionizado) para estimular e aprimorar as reações químicas durante o processo de deposição de filme fino. Ao contrário do CVD convencional, que depende exclusivamente de altas temperaturas para impulsionar as reações, o PECVD utiliza plasma de alta energia. Esse plasma energiza os gases precursores, levando à formação de espécies reativas em temperaturas de substrato significativamente mais baixas. Essas espécies reativas são então adsorvidas na superfície do substrato e sofrem reações químicas para formar um filme fino sólido. Este método permite a deposição de vários filmes de alta qualidade, como SiO2, SiNx e SiOxNy, e é particularmente eficaz para criar filmes finos de silício amorfo ou microcristalino usados em células solares. As temperaturas de processamento mais baixas minimizam o estresse térmico nos substratos, reduzem furos e evitam rachaduras, tornando o PECVD ideal para uma gama mais ampla de materiais e aplicações.
Personalize sua solução de PECVD com a KINTEK
Pronto para elevar suas capacidades de deposição de filmes finos? Os especialistas da KINTEK estão à disposição para discutir as necessidades e desafios específicos do seu projeto. Podemos ajudar você a configurar um sistema de Deposição Química de Vapor Melhorada por Plasma perfeitamente adaptado aos seus requisitos experimentais ou de produção. Beneficie-se da nossa expertise em personalização aprofundada e tecnologia avançada para alcançar resultados superiores.
Entre em contato conosco hoje para explorar sua solução personalizada de PECVD!
Confiado pelos Líderes da Indústria
FAQ
Quais São As Principais Aplicações De Um Forno Tubular Rotativo?
O Que é Um Forno Tubular E Como Funciona?
Qual é O Princípio De Um Forno Rotativo?
Para Que é Utilizado Um Forno Rotativo?
Quais São As Principais Aplicações Dos Fornos Tubulares Multi-zona?
Quais São As Aplicações Comuns De Um Forno De Tubos Divididos?
O Que é Um Forno Tubular Vertical?
Quais São As Principais Caraterísticas De Um Forno Tubular Rotativo?
Quais São As Principais Aplicações Dos Fornos Tubulares?
Quais São As Vantagens Da Utilização De Um Forno Rotativo?
Quais São Os Principais Tipos De Fornos Rotativos Disponíveis?
Quais São As Principais Caraterísticas Dos Fornos Tubulares Multi-zona?
Quais São As Principais Caraterísticas De Um Forno De Tubo Dividido?
Quais São As Aplicações De Um Forno Tubular Vertical?
Como Funciona Um Forno Tubular Rotativo?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Tubular?
Quais São As Principais Caraterísticas De Um Forno Rotativo?
Como é Que Um Forno Rotativo Funciona?
Como Funciona Um Forno Tubular Multi-zona?
Como Funciona Um Forno De Tubo Dividido?
Quais São As Vantagens De Um Forno Tubular Vertical?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Tubular Rotativo?
Que Tipos De Fornos Tubulares Estão Disponíveis?
Quais São As Aplicações Mais Comuns De Um Forno Rotativo?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Rotativo?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno Tubular Multi-zona?
Quais São As Vantagens De Utilizar Um Forno De Tubos Divididos?
Como é Que Um Forno Tubular Vertical Funciona?
Que Temperatura Pode Atingir Um Forno Tubular Rotativo?
Que Gamas De Temperatura Podem Atingir Os Fornos Tubulares?
Como é Que Um Forno Rotativo Lida Com Diferentes Materiais?
Que Caraterísticas De Segurança Estão Incluídas Nos Fornos Rotativos?
Que Tipos De Fornos Tubulares Multi-zona Estão Disponíveis?
Que Temperatura Pode Atingir Um Forno De Tubos Divididos?
Que Tipos De Fornos Tubulares Verticais Estão Disponíveis?
Que Tipos De Materiais Podem Ser Processados Num Forno Tubular Rotativo?
Os Fornos Tubulares Podem Funcionar Sob Diferentes Atmosferas?
Os Fornos Rotativos Podem Ser Personalizados Para Aplicações Específicas?
Porque é Que O Design Dividido é Benéfico Num Forno Tubular?
Porquê Escolher Um Forno Tubular Vertical Em Vez De Um Horizontal?
O Que Torna Os Fornos Tubulares KINTEK Especiais?
Que Gamas De Temperatura Podem Atingir Os Fornos Tubulares Verticais?
Os Fornos Tubulares Verticais São Personalizáveis?
Folha de Dados do Produto
Forno tubular de deposição química melhorada por plasma rotativo inclinado - Máquina PECVD
SOLICITAR UM ORÇAMENTO
Nossa equipe profissional responderá a você em até um dia útil. Sinta-se à vontade para nos contatar!
Produtos relacionados
Forno de Tubo PECVD de Deposição Química de Vapor Assistida por Plasma Rotativo Inclinado
Forno de tubo PECVD avançado para deposição precisa de filmes finos. Aquecimento uniforme, fonte de plasma RF, controle de gás personalizável. Ideal para pesquisa de semicondutores.
Forno de Tubo PECVD Deslizante com Máquina PECVD de Gaseificador de Líquidos
Forno de Tubo PECVD Deslizante KINTEK: Deposição de filmes finos de precisão com plasma RF, ciclagem térmica rápida e controle de gás personalizável. Ideal para semicondutores e células solares.
Sistema RF PECVD Deposição de vapor químico enriquecida com plasma de radiofrequência
Sistema PECVD RF KINTEK: Deposição de película fina de precisão para semicondutores, ótica e MEMS. Processo automatizado e de baixa temperatura com qualidade de película superior. Soluções personalizadas disponíveis.
Forno tubular CVD versátil feito à medida Máquina de equipamento de deposição química de vapor CVD
O forno tubular CVD da KINTEK oferece um controlo preciso da temperatura até 1600°C, ideal para a deposição de películas finas. Personalizável para necessidades industriais e de investigação.
Máquina de forno tubular CVD com várias zonas de aquecimento para equipamento de deposição química de vapor
Os fornos tubulares CVD multi-zona da KINTEK oferecem um controlo preciso da temperatura para deposição avançada de película fina. Ideal para investigação e produção, personalizável de acordo com as necessidades do seu laboratório.
Forno tubular rotativo com inclinação para vácuo para laboratório Forno tubular rotativo
Forno rotativo de laboratório KINTEK: Aquecimento de precisão para calcinação, secagem e sinterização. Soluções personalizáveis com vácuo e atmosfera controlada. Melhore a investigação agora!
Forno tubular rotativo com várias zonas de aquecimento divididas Forno tubular rotativo
Forno tubular rotativo de precisão com várias zonas de aquecimento para processamento de materiais a alta temperatura, com inclinação ajustável, rotação de 360° e zonas de aquecimento personalizáveis. Ideal para laboratórios.
Forno tubular CVD de câmara dividida com máquina CVD de estação de vácuo
Forno tubular CVD de câmara dividida com estação de vácuo - Forno de laboratório de alta precisão a 1200°C para investigação de materiais avançados. Soluções personalizáveis disponíveis.
Forno de Tubo Rotativo de Trabalho Contínuo Selado a Vácuo Forno de Tubo Giratório
Forno de tubo rotativo de precisão para processamento contínuo a vácuo. Ideal para calcinação, sinterização e tratamento térmico. Customizável até 1600℃.
Forno tubular de quartzo para laboratório com várias zonas Forno tubular
Forno tubular multi-zona KINTEK: Aquecimento preciso de 1700℃ com 1-10 zonas para pesquisa avançada de materiais. Personalizável, pronto para vácuo e com certificação de segurança.
Forno tubular vertical de quartzo para laboratório Forno tubular
Forno Tubular Vertical de Precisão KINTEK: 1800℃ de aquecimento, controlo PID, personalizável para laboratórios. Ideal para CVD, crescimento de cristais e testes de materiais.
Forno tubular de quartzo para laboratório Forno tubular de aquecimento RTP
O forno tubular de aquecimento rápido RTP da KINTEK proporciona um controlo preciso da temperatura, um aquecimento rápido até 100°C/seg e opções de atmosfera versáteis para aplicações laboratoriais avançadas.
Forno de Tubo de Condensação para Extração e Purificação de Magnésio
Forno de tubo de purificação de magnésio para produção de metal de alta pureza. Atinge vácuo ≤10Pa, aquecimento de zona dupla. Ideal para aeroespacial, eletrônica e pesquisa de laboratório.
Forno tubular de vácuo de laboratório de alta pressão Forno tubular de quartzo
Forno tubular de alta pressão KINTEK: Aquecimento de precisão até 1100°C com controlo de pressão de 15Mpa. Ideal para sinterização, crescimento de cristais e investigação laboratorial. Soluções personalizáveis disponíveis.
Sistema de Máquina MPCVD Reator Ressonador de campânula para laboratório e crescimento de diamante
Sistemas KINTEK MPCVD: Máquinas de crescimento de diamantes de precisão para diamantes de alta pureza cultivados em laboratório. Fiáveis, eficientes e personalizáveis para a investigação e a indústria.
Sistema de Máquina MPCVD com Ressonador Cilíndrico para Crescimento de Diamante em Laboratório
Sistemas KINTEK MPCVD: Produza filmes de diamante de alta qualidade com precisão. Fiáveis, eficientes em termos energéticos e fáceis de utilizar por principiantes. Suporte especializado disponível.
Forno rotativo elétrico Forno rotativo pequeno Forno rotativo para instalações de pirólise de biomassa Forno rotativo
O forno rotativo de pirólise de biomassa da KINTEK converte a biomassa em biochar, bio-óleo e gás de síntese de forma eficiente. Personalizável para investigação ou produção. Obtenha a sua solução agora!
Forno de Atmosfera Controlada de Nitrogênio Inerte 1200℃
Forno de Atmosfera Controlada KINTEK 1200℃: Aquecimento de precisão com controle de gás para laboratórios. Ideal para sinterização, recozimento e pesquisa de materiais. Tamanhos personalizáveis disponíveis.
Forno SPS para sinterização por plasma com faísca
Descubra o avançado forno de sinterização por plasma de faísca (SPS) da KINTEK para o processamento rápido e preciso de materiais. Soluções personalizáveis para investigação e produção.
Forno de Tubo de Laboratório de Alta Temperatura 1700℃ com Tubo de Alumina
Forno de Tubo com Tubo de Alumina da KINTEK: Aquecimento de precisão até 1700°C para síntese de materiais, CVD e sinterização. Compacto, personalizável e pronto para vácuo. Explore agora!
Artigos relacionados
Mais do que um Botão: A Psicologia da Precisão no Controle de Fornos Tubulares
A escolha de um sistema de controle para fornos tubulares é uma decisão estratégica que molda a repetibilidade do processo, a integridade dos dados e a credibilidade da pesquisa.
Dominando o Vazio: Como Fornos Tubulares Projetam Resultados Previsíveis
Um forno tubular oferece mais do que calor; ele fornece um universo controlado para a síntese de materiais, garantindo a repetibilidade do processo e resultados previsíveis.
A Física do Controle: Dominando a Jornada de Três Estágios do Calor em um Forno Tubular
Domine os processos térmicos compreendendo a jornada de três estágios do calor — radiação, convecção e condução — e como o design do forno dita os resultados.
Além do Calor: O Poder Invisível do Controle Ambiental em Fornos Tubulares
Descubra por que o verdadeiro valor de um forno tubular não é apenas a temperatura, mas o controle ambiental absoluto que ele oferece para ciência repetível.
Uma Guerra Contra o Caos: A Engenharia Elegante do Forno Tubular Moderno
Um forno não é apenas um aquecedor; é um sistema que combate a entropia. Explore a física da conversão de eletricidade em energia térmica precisa e uniforme.
Do Pó ao Poder: A Física do Controle em um Forno Tubular
Fornos tubulares criam vidro e cerâmica superiores não apenas com calor, mas através de um controle atmosférico preciso que previne a oxidação e possibilita processos avançados.
Além da Temperatura: Dominando o Ambiente Invisível em um Forno Tubular
Um mergulho profundo em como o design de um forno tubular domina a precisão, separando a fonte de calor de um ambiente de amostra controlado e isolado.
Seu Forno Não é Apenas um Aquecedor: Por Que Equipamentos "Bons o Suficiente" Estão Sabotando Sua Pesquisa de Materiais Avançados
Lutando com resultados inconsistentes do seu forno tubular? Descubra por que equipamentos padrão falham e como uma abordagem modular e personalizável é a chave para o sucesso.
A Arte do Isolamento: Dominando Propriedades de Materiais com Fornos Tubulares
Fornos tubulares destacam-se não apenas por aquecer, mas por isolar amostras em uma atmosfera controlada, permitindo processamento térmico preciso para materiais avançados.
Além do Calor: A Psicologia da Precisão em um Forno Tubular
Explore o papel crucial do controle atmosférico e da uniformidade de temperatura em fornos tubulares para pesquisas repetíveis e de alto risco em ciência de materiais.
Controle é Tudo: O Forno Tubular e a Arte da Engenharia em Escala Atômica
Fornos tubulares fornecem o controle em nível atômico de temperatura e atmosfera essencial para processos de semicondutores como dopagem, oxidação e recozimento.
Dominando o Microambiente: O Poder Invisível do Forno Tubular
Explore como o verdadeiro valor do forno tubular não está no calor, mas em sua capacidade de criar um ambiente controlado para a ciência dos materiais.