Os fornos tubulares divididos em três zonas oferecem opções flexíveis de alimentação eléctrica para se adaptarem a diferentes ambientes industriais e laboratoriais.As principais opções são 220V CA monofásica e 415V CA trifásica, satisfazendo os diferentes requisitos de energia e infra-estruturas das instalações.Estes fornos são concebidos para aplicações de alta temperatura como processos de reactores de deposição química de vapor com caraterísticas avançadas, como o controlo de temperatura multi-zona e mecanismos de segurança robustos.
Pontos-chave explicados:
1. Opções de fonte de alimentação
-
220V monofásico AC:
- Ideal para operações de pequena escala ou instalações com infra-estruturas eléctricas limitadas.
- Adequado para aplicações com necessidades moderadas de energia, como laboratórios de investigação ou produção à escala piloto.
-
415V CA trifásico:
- Preferido para operações à escala industrial que requerem uma maior potência de entrada.
- Garante um desempenho estável para processos a alta temperatura (até 1800°C) e configurações multi-zona.
2. Caraterísticas específicas da aplicação
-
Controlo Multi-Zonas:
- Permite a regulação independente da temperatura em três zonas, essencial para processos como a dopagem de semicondutores ou a síntese de nanomateriais.
- As opções de controlador mestre/escravo optimizam a uniformidade e a reprodutibilidade.
-
Personalização:
- Os diâmetros dos tubos (50-120mm) e os comprimentos das zonas quentes (300-900mm) podem ser adaptados às necessidades específicas.
- Elementos de aquecimento (Kanthal, SiC, MoSi2) selecionados com base nos requisitos de temperatura e na compatibilidade dos materiais.
3. Segurança e precisão
- A proteção contra sobreaquecimento e os alarmes de rutura de termopar garantem a segurança operacional.
- As capacidades de programação por etapas permitem a criação de perfis térmicos precisos para fluxos de trabalho complexos.
4. Relevância industrial
- Os fornos de tubos divididos são amplamente utilizados no fabrico de semicondutores, cerâmica e ciência dos materiais, onde os gradientes térmicos controlados são essenciais.
- A alimentação trifásica (415V) suporta aplicações de consumo intensivo de energia, como reactores de deposição de vapor químico em grande escala reactores de deposição química de vapor sistemas.
Ao selecionar a fonte de alimentação e a configuração adequadas, os utilizadores podem otimizar o desempenho tanto para a investigação como para o processamento térmico à escala industrial.
Tabela de resumo:
| Caraterísticas | 220V monofásico AC | 415V CA trifásico |
|---|---|---|
| Ideal para | Laboratórios de pequena escala, produção piloto | Necessidades de alta potência à escala industrial |
| Gama de temperaturas | Até 1800°C | Até 1800°C |
| Vantagem chave | Menores exigências de infraestrutura | Desempenho estável de alta potência |
| Aplicações típicas | Investigação, nanomateriais | Reactores CVD, dopagem de semicondutores |
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