Conhecimento Para que é utilizado um forno tubular vertical no fabrico de semicondutores?Essencial para a formação de película e recozimento
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Equipe técnica · Kintek Furnace

Atualizada há 3 dias

Para que é utilizado um forno tubular vertical no fabrico de semicondutores?Essencial para a formação de película e recozimento

Um forno tubular vertical é um sistema de aquecimento especializado amplamente utilizado no fabrico de semicondutores para processos como a formação de películas, recozimento e endurecimento de películas de resina.O seu design de tubo de quartzo vertical assegura uma distribuição uniforme do calor e um controlo preciso da temperatura, que são essenciais para a produção de dispositivos semicondutores de elevado desempenho.A capacidade do forno para lidar com o processamento de bolachas num ambiente controlado torna-o indispensável para a oxidação, difusão e outros tratamentos térmicos essenciais para o fabrico de semicondutores.

Pontos-chave explicados:

  1. Principais aplicações no fabrico de semicondutores

    • Formação de películas:O forno tubular vertical é utilizado para depositar películas finas (por exemplo, óxidos, nitretos) em bolachas de silício, uma etapa fundamental na criação de circuitos integrados.
    • Recozimento:Aquece os wafers para aliviar a tensão, ativar dopantes ou melhorar a estrutura cristalina, melhorando as propriedades eléctricas.
    • Endurecimento de películas de resina:Cura as camadas fotorresistentes após a litografia, assegurando a estabilidade do padrão durante a gravação.
  2. Vantagens de conceção

    • Tubo de Quartzo Vertical:Permite um aquecimento uniforme e minimiza a contaminação, mantendo os wafers isolados das paredes do forno.
    • Controlo preciso da temperatura:Crítico para a reprodutibilidade em processos como a difusão, em que os desvios de temperatura podem alterar o desempenho do dispositivo.
  3. Comparação com outros tipos de fornos

    • Diferente dos fornos de mufla (utilizados para oxidação/difusão) ou fornos de prensagem a quente (para colagem de bolachas), os fornos tubulares verticais destacam-se em processos que requerem controlo do fluxo de gás (por exemplo, CVD) ou processamento em lote de bolachas empilhadas verticalmente.
  4. Integração com outras ferramentas de semicondutores

    • Frequentemente emparelhado com sistemas PECVD para etapas complementares de deposição de película fina.
    • Suporta ambientes de vácuo ou de gás inerte para processos sensíveis como a silicidação.
  5. Impacto na indústria

    • Permite a produção de semicondutores de nós avançados, assegurando a uniformidade das caraterísticas à nanoescala.
    • Reduz os defeitos em comparação com as concepções horizontais, uma vez que as partículas se afastam das bolachas devido à gravidade.

Para os compradores, factores como o diâmetro do tubo (que acomoda tamanhos de bolacha até 300 mm), a temperatura máxima (frequentemente 1200°C+) e os sistemas de fornecimento de gás são especificações fundamentais a avaliar.O papel do forno nos processos fundamentais torna-o um investimento de alta prioridade para as fábricas que pretendem aumentar a produção de forma fiável.

Tabela de resumo:

Principais caraterísticas Vantagem no fabrico de semicondutores
Tubo de quartzo vertical Assegura um aquecimento uniforme e minimiza a contaminação para o processamento de bolachas de elevada pureza.
Controlo preciso da temperatura Crítico para a difusão reprodutível, oxidação e ativação de dopantes na produção de nódulos avançados.
Integração de fluxo de gás Suporta CVD e outros processos que requerem atmosferas controladas (por exemplo, gás inerte ou ambientes de vácuo).
Processamento em lote Manipula eficazmente wafers empilhados verticalmente, reduzindo os defeitos através da remoção de partículas assistida por gravidade.

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