Os fornos tubulares oferecem opções de controlo versáteis adaptadas à gestão precisa da temperatura, à automatização de processos e à regulação do ambiente de gás.Estes sistemas integram controlos electrónicos, interfaces de software e manuseamento de gás especializado para acomodar diversas aplicações industriais e de investigação - desde testes de materiais a processamento de semicondutores.A disponibilidade de configurações multi-zona e personalizações aumenta ainda mais a sua adaptabilidade.
Pontos-chave explicados:
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Painéis de controlo eletrónico com proteção contra sobretemperatura
- De série na maioria dos fornos tubulares, estes painéis permitem a regulação manual da temperatura e a monitorização em tempo real.
- Os controlos de sobretemperatura incorporados desligam automaticamente o sistema se os limites de segurança forem excedidos, evitando danos no equipamento.
- Compatível com termopares (por exemplo, Tipo K, S) para precisão em gamas até 1800°C.
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Software de controlo e aquisição de dados (DACS)
- Permite perfis de temperatura programáveis (ciclos de rampa/embebição) para experiências repetíveis.
- Suporta operação remota através de PC ou dispositivos móveis, ideal para processos sem supervisão, como testes de catalisadores ou sinterização de cerâmica.
- Regista dados históricos para conformidade e análise, essenciais em indústrias como a aeroespacial ou a farmacêutica.
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Sistema de gestão de gás SIMGAS4
- Integra-se com fornos de retorta atmosférica para regular gases inertes/reactivos (por exemplo, N₂, H₂, Ar).
- Inclui válvulas de controlo de fluxo e sensores de pressão para uma composição precisa da atmosfera - essencial na metalurgia ou na síntese de grafeno.
- Inclui encravamentos de segurança para interromper o fluxo de gás durante falhas de energia.
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Configurações de controlo de várias zonas
- As concepções de tubos divididos permitem zonas de temperatura independentes (por exemplo, zonas quentes de 300 mm) para aplicações baseadas em gradientes, como o revestimento CVD.
- Personalizável para orientações horizontais, verticais ou rotativas, acomodando processamento em lote ou contínuo.
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Opções de personalização
- Os materiais do tubo (quartzo, alumina) e os diâmetros (50-120 mm) adaptam-se às dimensões da amostra.
- Elementos de aquecimento (Kanthal, MoSi₂) selecionados para temperaturas alvo (1200-1800°C).
- Câmaras de vácuo ou de alta pressão opcionais para investigação especializada.
Estes sistemas de controlo respondem coletivamente às necessidades de precisão, segurança e escalabilidade - seja num laboratório universitário que estuda nanomateriais ou numa fábrica que produz componentes de baterias.A configuração correta depende de factores como o rendimento, os requisitos de atmosfera e as tolerâncias de uniformidade térmica.
Tabela de resumo:
| Opção de controlo | Caraterísticas principais | Aplicações |
|---|---|---|
| Painéis de controlo eletrónico | Regulação manual da temperatura, proteção contra sobreaquecimento, compatibilidade com termopares | Ensaio de materiais, processamento de semicondutores |
| Software de aquisição de dados (DACS) | Perfis programáveis, funcionamento remoto, registo de dados | Ensaio de catalisadores, sinterização de cerâmica, conformidade aeroespacial/farmacêutica |
| Gestão de gás SIMGAS4 | Controlo de fluxo/pressão, encravamentos de segurança, suporte de gás inerte/reativo | Metalurgia, síntese de grafeno, revestimento CVD |
| Configurações de várias zonas | Zonas de temperatura independentes, orientações personalizáveis | Processos baseados em gradiente (por exemplo, CVD), processamento em lote/contínuo |
| Opções de personalização | Materiais de tubos, elementos de aquecimento, câmaras de vácuo/alta pressão | Investigação especializada (por exemplo, nanomateriais, componentes de baterias) |
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