O sistema de vácuo no equipamento PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) é fundamental para manter o ambiente de baixa pressão necessário para a deposição de película fina.As principais especificações incluem uma porta de sucção KF40 e uma porta de exaustão de G1 polegadas, com velocidades de exaustão de 60L/s para azoto e 55L/s com uma rede de proteção.O sistema utiliza rolamentos de cerâmica com lubrificação a graxa, refrigeração por ar forçado e opera a 69.000 rpm.Possui um controlador de bomba molecular TC75 e uma bomba de vácuo de palhetas rotativas de duas fases com uma velocidade de escape de 160 L/min.As taxas de compressão são 2x10^7 para N2 e 3x10^3 para H2, com uma contrapressão máxima permitida de 800Pa e uma vida útil de 20.000 horas.Os tempos de arranque e paragem são de 1,5-2 minutos e 15-25 minutos, respetivamente.Estas especificações garantem um funcionamento eficiente e estável, crucial para a deposição de película de alta qualidade em aplicações como o fabrico de semicondutores e revestimentos ópticos.
Pontos-chave explicados:
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Configurações de porta e velocidades de escape
- Porta de aspiração KF40 e porta de escape G1:As ligações normalizadas garantem a compatibilidade com outros componentes de vácuo.
- Velocidades de escape 60L/s para o azoto (55L/s com rede de proteção) indicam uma elevada eficiência de bombagem, crítica para a manutenção de condições de baixa pressão durante a deposição.
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Detalhes mecânicos e operacionais
- Rolamentos cerâmicos com lubrificação a graxa:Aumenta a durabilidade e reduz a fricção a velocidades elevadas (69.000 rpm).
- Arrefecimento por ar forçado:Evita o sobreaquecimento durante um funcionamento prolongado.
- Tempos de arranque/paragem:1,5-2 minutos (arranque) e 15-25 minutos (paragem) reflectem a capacidade de resposta do sistema e os protocolos de segurança.
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Métricas de desempenho
- Rácios de compressão 2x10^7 para N2 e 3x10^3 para H2 asseguram um manuseamento eficaz do gás em diferentes condições de processo.
- Contrapressão máxima: o limite de 800Pa protege o sistema contra danos por sobrepressão.
- Vida útil dos rolamentos: 20 000 horas indica uma fiabilidade a longo prazo, reduzindo os custos de manutenção.
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Componentes integrados
- Controlador de bomba molecular TC75:Permite um controlo preciso do nível de vácuo.
- Bomba de palhetas rotativas de duas fases (160L/min):Funciona em conjunto com a bomba molecular para uma evacuação eficaz do gás.
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Contexto mais alargado do sistema
- Equipamento PECVD, incluindo máquina mpcvd O sistema de vácuo da Mpcvd, muitas vezes, integra estes sistemas de vácuo com reactores reforçados por radiofrequência (por exemplo, placas paralelas ou modelos indutivos) para uma geração de plasma uniforme.
- Caraterísticas como a limpeza de plasma in-situ e as fases de bolacha com temperatura controlada (20°C-1200°C) complementam o papel do sistema de vácuo na obtenção de uma deposição de elevada pureza.
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Considerações sobre aplicações
- As especificações do sistema de vácuo têm um impacto direto na qualidade da película em aplicações como células solares, MEMS e revestimentos de barreira.Por exemplo, as baixas temperaturas de formação de película (<400°C) permitem a deposição em substratos sensíveis ao calor.
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Manutenção e longevidade
- A monitorização regular da vida útil dos rolamentos e dos limites de contrapressão garante um desempenho sustentado, alinhado com as normas da indústria para ferramentas de fabrico de semicondutores.
Ao compreender estas especificações, os compradores podem avaliar a compatibilidade com os seus requisitos de processo, equilibrando a velocidade, a precisão e a vida útil operacional.A integração de sistemas de vácuo robustos com reactores PECVD avançados exemplifica tecnologias que moldam silenciosamente a microeletrónica e a nanotecnologia modernas.
Tabela de resumo:
| Especificação | Detalhes |
|---|---|
| Configurações das portas | Porta de sucção KF40, porta de escape G1 polegadas |
| Velocidades de exaustão | 60L/s (N₂), 55L/s (com rede de proteção) |
| Rolamentos e arrefecimento | Rolamentos de cerâmica (lubrificação com massa), arrefecimento por ar forçado, 69.000 rpm |
| Rácios de compressão | 2×10⁷ (N₂), 3×10³ (H₂) |
| Pressão de retorno máxima | 800Pa |
| Vida útil do rolamento | 20.000 horas |
| Tempos de arranque/paragem | 1,5-2 min (arranque), 15-25 min (paragem) |
| Componentes integrados | Controlador de bomba molecular TC75, bomba de palhetas rotativas de duas fases (160L/min) |
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