O forno tubular de 3 zonas é um equipamento versátil concebido para aplicações precisas de processamento térmico, tais como recozimento e deposição química de vapor (CVD).Possui três zonas de aquecimento controladas de forma independente, permitindo uma excelente uniformidade de temperatura e controlo de gradiente.O forno pode acomodar amostras de até 60 mm de tamanho e suporta o fornecimento de gás a várias pressões, incluindo condições atmosféricas e subatmosféricas.As principais capacidades incluem manuseamento flexível de gás, geração mínima de partículas e compatibilidade com gases de processo como Ar, 4%H2 em Ar e N2.Estas caraterísticas tornam-no ideal para aplicações industriais e de investigação que requerem ambientes térmicos controlados.
Pontos-chave explicados:
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Capacidades flexíveis de processamento térmico
- O forno tubular de 3 zonas foi concebido para recozimento e deposição química de vapor (CVD) a temperaturas inferiores a 1000°C.
- Três zonas de aquecimento controladas de forma independente permitem gradientes de temperatura precisos, essenciais para o tratamento uniforme do material.
- As aplicações incluem a sinterização sob vácuo (melhorando a densidade do material) e o recozimento sob vácuo (alívio de tensões e uniformidade da microestrutura).
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Manuseamento de amostras e compatibilidade de tamanhos
- Acomoda amostras de até 60 mm (2 polegadas) de tamanho, adequadas para experiências de pequena e média escala.
- Os designs verticais minimizam a geração de partículas, enquanto os sistemas automáticos de transferência de wafer/barco aumentam a produtividade.
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Sistema avançado de fornecimento de gás
- Equipado com um coletor para introdução de gases de processo/purga (por exemplo, Ar, 4%H2 em Ar, N2) a pressões atmosféricas ou subatmosféricas.
- A compatibilidade do tubo de quartzo assegura a inércia química e a estabilidade a altas temperaturas.
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Controlo da temperatura e da atmosfera
- Excelente distribuição de temperatura entre zonas, crucial para resultados consistentes na síntese de materiais.
- Suporta o processamento em vácuo ou em atmosfera controlada, permitindo tratamentos sensíveis à oxidação.
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Componentes principais e caraterísticas de segurança
- Sistema de aquecimento:Elementos de resistência eléctrica (por exemplo, SiC, MoSi2) para uma utilização eficiente da energia.
- Arrefecimento:Dessecadores para uma transferência segura de amostras após o aquecimento, evitando a contaminação.
- Controlo:Os sistemas PID/PLC automatizam os perfis de temperatura e as sequências de processo.
Estas capacidades tornam o forno tubular de 3 zonas indispensável para laboratórios e indústrias centrados no desenvolvimento de materiais avançados, processamento de semicondutores e tratamentos térmicos de precisão.O seu design modular e a flexibilidade do gás satisfazem as necessidades de investigação em evolução, assegurando simultaneamente a reprodutibilidade.
Tabela de resumo:
| Caraterística | Descrição |
|---|---|
| Zonas de aquecimento | Três zonas controladas de forma independente para gradientes de temperatura precisos. |
| Tamanho da amostra | Acomoda amostras de até 60 mm (2 polegadas). |
| Fornecimento de gás | Suporta Ar, 4%H2 em Ar, N2 a pressões atmosféricas/sub-atmosféricas. |
| Controlo da temperatura | Excelente uniformidade para uma síntese consistente de materiais. |
| Aplicações | Recozimento, CVD, sinterização sob vácuo e tratamentos sensíveis à oxidação. |
| Segurança e automatização | Sistemas PID/PLC, dessecadores e tubo de quartzo inerte para um funcionamento fiável. |
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