Conhecimento Quais são as dimensões típicas dos fornos de vácuo à escala laboratorial?Soluções compactas e de alto desempenho
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Equipe técnica · Kintek Furnace

Atualizada há 4 dias

Quais são as dimensões típicas dos fornos de vácuo à escala laboratorial?Soluções compactas e de alto desempenho

Os fornos de vácuo à escala laboratorial são concebidos para equilibrar compacidade e funcionalidade, tornando-os ideais para investigação e aplicações industriais de pequena escala.As suas dimensões típicas, tais como ≤500×500×500mm, garantem que cabem confortavelmente em espaços de laboratório confinados, mantendo a precisão e o controlo necessários para o processamento a alta temperatura em ambientes sem oxigénio.Estes fornos são versáteis, suportando aplicações que vão desde a secagem a baixa temperatura até à sinterização a alta temperatura, e incluem frequentemente caraterísticas avançadas como controladores programáveis e mecanismos de segurança.

Pontos-chave explicados:

  1. Dimensões típicas

    • Os fornos de vácuo à escala laboratorial têm normalmente dimensões de câmara de ≤500×500×500mm O sistema é optimizado para eficiência de espaço sem comprometer o desempenho.
    • Estas dimensões compactas tornam-nos adequados para laboratórios académicos, instalações de I&D e ambientes de produção em pequena escala onde o espaço é limitado.
  2. Design e funcionalidade

    • Concebida para precisão e adaptabilidade Estes fornos são excelentes na criação de ambientes sem oxigénio, essenciais para processos como a sinterização, a brasagem e o tratamento térmico.
    • Incorporam frequentemente tecnologias híbridas, como a combinação de sistemas de vácuo e atmosfera, para aumentar a segurança e reduzir as emissões.Para aplicações especializadas, uma máquina de prensagem a quente por vácuo pode ser integrado para um maior controlo da pressão.
  3. Gama de temperaturas e aplicações

    • Utilizações a baixa temperatura (≤1200°C):Secagem, têmpera e desbaste.
    • Utilizações a alta temperatura (>1200°C):Crescimento de cristais, fabrico de dispositivos médicos e processamento avançado de ligas.
    • A cementação a vácuo (endurecimento por cementação) é outra aplicação chave, normalmente efectuada a 870-1070°C .
  4. Caraterísticas avançadas

    • Controladores programáveis:Os sistemas PID/PLC de 51 segmentos automatizam o aquecimento, o arrefecimento e os tempos de espera.
    • Mecanismos de segurança:Proteção contra sobreaquecimento, desligamento automático e interfaces de ecrã tátil para ajustes em tempo real.
    • Integração opcional com PC:Permite a monitorização remota e o registo de dados para experiências reprodutíveis.
  5. Adequação ao material e à indústria

    • Ideal para processar metais, cerâmicas e compósitos em indústrias como a aeroespacial, a eletrónica e a engenharia biomédica.
    • A sua versatilidade suporta tanto fluxos de trabalho em lote e contínuos e fluxos de trabalho contínuos, atendendo a diversas necessidades de investigação e produção.

Ao compreender estas dimensões e capacidades, os compradores podem selecionar fornos que se alinham com os seus requisitos operacionais específicos, seja para prototipagem, testes de qualidade ou síntese de materiais especializados.

Tabela de resumo:

Caraterística Detalhes
Dimensões típicas ≤500×500×500mm (compacto para espaços de laboratório)
Gama de temperaturas ≤1200°C (baixa temperatura) a >1200°C (alta temperatura)
Aplicações principais Sinterização, brasagem, secagem, cementação, crescimento de cristais
Caraterísticas avançadas PID/PLC programável, mecanismos de segurança, integração com PC
Indústrias servidas Aeroespacial, biomédica, eletrónica, investigação de materiais

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Os fornos de vácuo à escala laboratorial da KINTEK combinam um design compacto (≤500×500×500mm) com um controlo avançado da temperatura (até 1700°C+), automação programável e caraterísticas de segurança líderes na indústria.Ideal para sinterização, brasagem ou processos especializados como o crescimento de diamantes com os nossos sistemas MPCVD .

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